Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Messung einer Konzentration mindestens einer Komponente eines Prozessgases mit einem Laser (2a), wobei der Strahlengang des Lasers (2a) ein das Prozessgas enthaltendes Volumen (1) durchquert. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass der Strahlengang teilweise frei durch das Prozessgas führt und teilweise von dem Prozessgas abgeschirmt verläuft, wobei nur der Teil des Strahlengangs, der frei durch das Prozessgas führt als Messstrecke (4) bezeichnet wird und zu einer laserspektroskopischen Messung der Konzentration herangezogen wird, bei der genau eine Absorptionslinie bestimmt wird.
Abstract:
The invention relates to a device and a method for measuring a concentration of at least one component of a process gas by means of a laser (2a), the beam path of the laser (2a) penetrating a volume (1) containing the process gas. The invention is characterized by the fact that one section of the beam path penetrates the process gas in a free manner while another section thereof is shielded from the process gas. Only the section of the beam path, which penetrates the process gas in a free manner, is designated as the section to be measured (4) and is used for measuring the concentration by means of laser spectroscopy, exactly one absorption line being determined for said measurement.