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公开(公告)号:CH707800A2
公开(公告)日:2014-09-30
申请号:CH6932013
申请日:2013-03-28
Applicant: NEOCOAT SA
Inventor: RATS DAVID , PROVENT CHRISTOPH
IPC: C23C16/27
Abstract: La présente invention concerne un procédé de dépôt de diamant nanocristallin, caractérisé en ce qu’il est effectué à une température comprise entre 100 et 500 °C, à une pression comprise entre 0.1 et 1 mbar et en ce qu’il est sur un substrat présentant une surface tridimensionnelle. Un autre aspect de l’invention concerne un équipement pour réaliser ce procédé.