公开(公告)号：CN1328523C

公开(公告)日：2007-07-25

申请号：CN02812321.2

申请日：2002-05-22

Applicant: NOK株式会社

Inventor： 安齐博 ,  菅野隆夫 ,  今本善美

IPC: F16J15/40

CPC classification number: F16J15/43

Abstract: 本发明提供一种在扩大两个构件的偏心允许值并提高密封性的同时，通过能够在装置组装前将磁性流体注入，可以降低质量的参差不齐，并且减少结构构件，实现了薄型化且容易制造的磁性流体密封装置。环状磁铁(3)被保持的磁性流体浮起支承，利用环状磁铁(3)和磁性流体(4、5)进行外壳(1)与轴(2)之间的密封。

公开(公告)号：CN1352752A

公开(公告)日：2002-06-05

申请号：CN00808150.6

申请日：2000-05-29

Applicant: NOK株式会社

Inventor： 安齐博 ,  山本浩和 ,  今本善美 ,  菅野隆夫 ,  难波竹巳

IPC: G02B7/02 ,  F16J15/43

CPC classification number: G02B7/20 ,  F16J15/43

Abstract: 遮光装置,它带有用于降低滑动阻力、提高光密性和节省空间的遮光密封(1)。遮光结构设置在多个间隔预定距离安置并能彼此相对运动的元件(13,14)之间,能防止光通过元件(13,14)之间的间隙进入。该遮光结构包括:设置在上述多个元件(13,14)中任一个上的磁力产生装置(2,3),和由磁力产生装置(2,3)磁力保持的与另一元件接触的磁性流体(4),其特征是,在元件(3,4)之间形成的间隙由磁性流体(4)遮住。

公开(公告)号：CN1518647A

公开(公告)日：2004-08-04

申请号：CN02812321.2

申请日：2002-05-22

Applicant: NOK株式会社

Inventor： 安齐博 ,  菅野隆夫 ,  今本善美

IPC: F16J15/40

CPC classification number: F16J15/43

Abstract: 本发明提供一种在扩大两个构件的偏心允许值并提高密封性的同时，通过能够在装置组装前将磁性流体注入，可以降低质量的参差不齐，并且减少结构构件，实现了薄型化且容易制造的磁性流体密封装置。环状磁铁(3)被保持的磁性流体浮起支承，利用环状磁铁(3)和磁性流体(4、5)进行外壳(1)与轴(2)之间的密封。