公开(公告)号：EP2784175A1

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：EP13161778.9

申请日：2013-03-28

Applicant: NeoCoat SA

Inventor： Rats, David ,  Provent, Christophe

IPC: C23C16/04 ,  C23C16/511 ,  C23C16/27 ,  H05H1/18 ,  H01J37/32

CPC classification number: C23C16/274 ,  B81C1/00373 ,  C01B32/25 ,  C23C16/045 ,  C23C16/511 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32201 ,  H01J37/32293 ,  H01J37/32403 ,  H01J37/32678 ,  H01J2237/327 ,  H01J2237/3321 ,  H01J2237/3323 ,  H01L21/02115 ,  H01L21/02274

Abstract: La présente invention concerne un équipement de dépôt de diamant en phase vapeur comprenant :
- un réacteur sous vide (3) comprenant une chambre de réaction reliée à une source de vide,
- un porte-substrat (5) disposé dans le réacteur.
Selon l'invention, l'équipement comporte une pluralité de sources de plasma, disposées selon une matrice tridimensionnelle dans la chambre de réaction, chaque source présentant une zone active située dans la chambre de réaction, le nombre de sources ponctuelles étant compris entre 80 et 320 par mètre carré de surface de plasma.

Abstract translation: 该装置包括：真空反应器（3），包括连接到真空源的反应室; 布置在反应器中的衬底保持器（5） 以及沿着反应室中的三维矩阵布置的一组等离子体源。 每个等离子体源在反应室中具有活性区，并且多个点源为等离子体表面的80-320 / m 2，等离子体的点源为同轴施加器（6）。 同轴施加器在其位于反应室中的端部具有限定活动区域的窗口。 独立权利要求包括：（1）沉积纳米晶体金刚石的方法; 和（2）通过该方法获得的部分。

公开(公告)号：EP3276651A1

公开(公告)日：2018-01-31

申请号：EP16181774.7

申请日：2016-07-28

Applicant: NeoCoat SA

Inventor： Rats, David ,  Naamoun, Medhi ,  Provent, Christophe

IPC: H01J37/32 ,  C23C16/27 ,  C23C16/458 ,  H05H1/46

CPC classification number: C23C16/274 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/511 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32211 ,  H01J37/32284

Abstract: In the present invention a method is disclosed for producing synthetic material on a substrate by microwave plasma activated chemical vapor deposition. The method comprises the step of providing a microwave plasma reactor configured to provide a plasma having a toroidal shape. The reactor comprises a resonant cavity and a substrate holder arranged to hold, preferably, an annular shaped substrate or a plurality of substrates arranged in an annular configuration.
When the reactor is in operation, it forms a plasma which has a toroidal shape and is aligned and proximate to a substrate whereupon a ring of synthetic hard material is grown over the growth surface of the substrate.
The invention is also achieved by a plasma reactor that is configured to provide a plasma having a toroidal shape facing at least one substrate to be coated with an annular shaped hard material such as diamond.

Abstract translation: 在本发明中公开了一种通过微波等离子体激活化学气相沉积在基底上制造合成材料的方法。 该方法包括提供配置成提供具有环形形状的等离子体的微波等离子体反应器的步骤。 所述反应器包括谐振腔和衬底保持器，所述衬底保持器被布置成优选地保持环形配置的环形衬底或多个衬底。 当反应器在操作中时，它形成具有环形形状的等离子体并且与衬底对准并靠近衬底，由此在衬底的生长表面上生长合成硬质材料环。 本发明还通过一种等离子体反应器来实现，该等离子体反应器被配置为提供具有环形形状的等离子体，该等离子体面向至少一个待涂覆有诸如金刚石的环形硬材料的基板。