衍射防伪单元
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100427323C

    公开(公告)日:2008-10-22

    申请号:CN02827321.4

    申请日:2002-11-02

    CPC classification number: B42D25/29 B42D25/328

    Abstract: 一种由层合塑料(1)构成的防伪单元(2),带有至少由表面单元嵌镶式组成的表面图案,其中,在表面单元内,层合塑料(1)的模型层(5)和保护层(6)之间的反射分界层(8)覆盖光学作用的结构(9)。射到层合塑料(1)上,穿过层合塑料(1)的覆盖层(4)并穿过模型层(5)的光线(11)借助于光学作用结构(9)预先规定偏转。在至少一个表面单元的表面内,成型由叠加线性不对称散射光栅(24)利用无光泽结构产生的衍射结构。线性不对称散射光栅(24)具有取值范围50线/mm-2000线/mm的空间密度。无光泽结构具有范围20nm-2000nm的轮廓平均算术偏差和200nm-50000nm的相关长度。

    衍射防伪单元
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1615226A

    公开(公告)日:2005-05-11

    申请号:CN02827321.4

    申请日:2002-11-02

    CPC classification number: B42D25/29 B42D25/328

    Abstract: 一种由层合塑料(1)构成的防伪单元(2),带有至少由表面单元嵌镶式组成的表面图案,其中,在表面单元内,层合塑料(1)的模型层(5)和保护层(6)之间的反射分界层(8)覆盖光学作用的结构(9)。射到层合塑料(1)上,穿过层合塑料(1)的覆盖层(4)并穿过模型层(5)的光线(11)借助于光学作用结构(9)预先规定偏转。在至少一个表面单元的表面内,成型由叠加线性不对称散射光栅(24)利用无光泽结构产生的衍射结构。线性不对称散射光栅(24)具有取值范围50线/mm-2000线/mm的空间密度。无光泽结构具有范围20nm-2000nm的轮廓平均算术偏差和200nm-50000nm的相关长度。

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