公开(公告)号：WO2005078715A3

公开(公告)日：2005-10-20

申请号：PCT/EP2005001485

申请日：2005-02-14

Applicant: PLASMATREAT GMBH ,  BUSKE CHRISTIAN ,  KNOSPE ALEXANDER

Inventor： BUSKE CHRISTIAN ,  KNOSPE ALEXANDER

IPC: G11B7/24056 ,  G11B7/2548 ,  G11B7/26 ,  G11B7/24

CPC classification number: G11B7/26 ,  G11B7/24056 ,  G11B7/2548

Abstract: The invention relates to a method for coating an optical data carrier which comprises at least one substrate layer and at least one reflection layer. According to the inventive method, a plasma jet is produced from a working gas using atmospheric plasma discharge. A precursor material is supplied to the working gas or to the plasma jet and is reacted in the plasma jet. The reaction product produced from the precursor material is deposited on the at least one substrate layer as an additional layer. Said additional layer can be used as a protective layer or as a barrier layer. The additional layer can also be used as a reflection layer in the set-up of the optical data carrier. The invention also relates to an optical data carrier having an additional layer that is produced by atmospheric plasma coating.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于涂覆光学数据载体，其具有在所述至少一个基片层和至少在其被从工艺气体通过其中供应到工作气体的前体材料的大气压等离子体放电来产生等离子体束的反射层，或等离子体射流和所述数据载体 使等离子体射流反应并且其中由前体材料反应产物得到的沉积在至少一个基底层上作为附加层。 附加层一方面可以用作保护层或阻挡层。 另一方面，附加层可以用作光学数据载体结构中的反射层。 本发明还涉及具有通过常压等离子体涂层产生的附加层的光学数据载体。

公开(公告)号：DE102008058783A1

公开(公告)日：2010-05-27

申请号：DE102008058783

申请日：2008-11-24

Applicant: PLASMATREAT GMBH

Inventor： KNOSPE ALEXANDER ,  BEER THOMAS ,  KUEBLER MICHAEL ,  BURR AUGUST

IPC: C23C16/453 ,  C23C16/455 ,  C23C16/513

Abstract: The invention relates to a method for applying a coating onto a nanosurface of a work piece, wherein an atmospheric plasma beam is generated by electric discharge in a working gas and a precursor material is fed in a spatially separate manner from the working gas, wherein the precursor material is fed directly to the plasma beam and the applied layer comprises a nanosurface which substantially corresponds to the nanosurface of the work piece. The invention relates in particular to a method for applying a separation layer in molding processes, wherein the work piece to be molded comprises a nanosurface.

公开(公告)号：DE102015121253A1

公开(公告)日：2017-06-08

申请号：DE102015121253

申请日：2015-12-07

Applicant: PLASMATREAT GMBH

Inventor： BUSKE CHRISTIAN ,  GRISHIN ARTUR ,  KNOSPE ALEXANDER ,  HE ZHONG ,  KLEIBNER FRANZ ,  MALEK FABRIZIO ,  MINCH STEVEN

IPC: H05H1/42 ,  A61L2/14 ,  C23C4/02 ,  H05H1/24 ,  H05H1/34

Abstract: Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Erzeugen eines atmosphärischen Plasmastrahls zur Behandlung der Oberfläche eines Werkstücks, mit einem rohrförmigen Gehäuse (10), das eine Achse (A) aufweist, mit einer innerhalb des Gehäuses (10) angeordneten Innenelektrode (24) und mit einer einen Auslasskanal (34) und eine Düsenöffnung (18) aufweisenden Düsenanordnung (30) zum Auslassen eines im Gehäuse (10) zu erzeugenden Plasmastrahls, wobei die Richtung der Düsenöffnung (18) unter einem Winkel zur Achse (A) verläuft und wobei die Düsenanordnung (30) relativ um die Achse (A) drehbar ist. Das technische Problem, eine Plasmabeschichtung zu verbessern, wird dadurch gelöst, dass mindestens eine Einlassöffnung (40) zum Einlassen eines Precursormaterials vorgesehen ist.

公开(公告)号：DE102013220841A1

公开(公告)日：2015-04-16

申请号：DE102013220841

申请日：2013-10-15

Applicant: PLASMATREAT GMBH ,  FRAUNHOFER GES ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E V

Inventor： IHDE JÖRG ,  WILKEN RALPH ,  DEGENHARDT JOST ,  KNOSPE ALEXANDER ,  BUSKE CHRISTIAN

IPC: C23C14/34 ,  C25D5/34 ,  C25D13/20

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Vorbehandlung einer Oberfläche eines Substrats (50), insbesondere für einen nachfolgenden Galvanisierungsprozess oder einen nachfolgenden elektrostatischen Beschichtungsprozess, wobei bei dem Verfahren durch eine Entladung zwischen Elektroden (16; 5, 32) in einem Prozessgas (18) ein Atmosphärendruckplasma erzeugt wird, mindestens eine der Elektroden eine Opferelektrode (16) ist, von der durch die Entladung Material abgetragen wird, es sich bei dem abgetragenen Material um leitfähige, insbesondere metallische, Partikel (30) handelt und/oder aus dem abgetragenen Material leitfähige, insbesondere metallische, Partikel (30) entstehen, und die Partikel so auf der Oberfläche des Substrats abgeschieden werden, dass die elektrische Leitfähigkeit der Oberfläche des Substrats erhöht wird. Ferner betrifft die Erfindung Verfahren zur Beschichtung einer Oberfläche eines Substrats, bei denen eine Schicht auf eine vorbehandelte Oberfläche des Substrats aufgebracht wird. Die Erfindung betrifft überdies ein durch das Vorbehandlungsverfahren erhältliches Vorbehandlungsprodukt und ein durch die Beschichtungsverfahren erhältliches Produkt.

公开(公告)号：DE102009048397A1

公开(公告)日：2011-04-07

申请号：DE102009048397

申请日：2009-10-06

Applicant: PLASMATREAT GMBH ,  FRAUNHOFER GES FORSCHUNG

Inventor： IHDE JOERG ,  WILKEN RALPH ,  DEGENHARDT JOST ,  KNOSPE ALEXANDER ,  BUSKE CHRISTIAN

IPC: C23C16/04 ,  C23C14/34 ,  C23C14/58 ,  C23C16/442 ,  C23C16/453

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung oberflächenmodifizierter Partikel in einem Atmosphärendruckplasma, sowie ein Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung mit darin dispergierten Partikeln unter Verwendung eines Atmosphärendruckplasmas. In beiden Verfahren wird das Plasma durch eine Entladung zwischen Elektroden in einem Prozessgas erzeugt. Ferner sind beide Verfahren dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Elektroden eine Sputterelektrode ist, von der durch die Entladung Partikel abgesputtert werden. Die vorliegende Erfindung betrifft darüber hinaus Verfahren zur Herstellung von Verbundmaterialien, bei denen mit einem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte oberflächenmodifizierte Partikel in eine Matrix eingebaut werden, sowie die Verbundmaterialien als solche. Schließlich schlägt die Erfindung auch Plasmadüsen, sowie diese enthaltende Vorrichtungen vor, mit denen die erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung oberflächenmodifizierter Partikel und zur Herstellung von Beschichtungen mit darin dispergierten Partikeln vorteilhaft durchgeführt werden können. Mit den erfindungsgemäßen Verfahren können auf leichte Weise oberflächenmodifizierte Partikel und Beschichtungen mit darin dispergierten Partikeln erzeugt werden, wobei auch bei Mikro- und Nanopartikeln Agglomerationsprobleme weitgehend vermieden werden können.

公开(公告)号：DE102016101456A1

公开(公告)日：2017-07-27

申请号：DE102016101456

申请日：2016-01-27

Applicant: PLASMATREAT GMBH

Inventor： BUSKE CHRISTIAN ,  GRISHIN ARTUR ,  FEHLING KAY ,  KNOSPE ALEXANDER

IPC: B29C45/14 ,  C23C16/00

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Spritzgussbauteils (64, 70, 90, 110) mit Einlegeteil (40, 72, 92, 112), bei dem ein Einlegeteil (40, 72, 92, 112) mit einer anorganischen Oberfläche (42) bereitgestellt wird und bei dem das Einlegeteil (40, 72, 92, 112) im Spritzguss zumindest teilweise umspritzt wird, wobei der beim Spritzguss umspritzte Bereich der anorganischen Oberfläche (42) des Einlegeteils (40, 72, 92, 112) vor dem Umspritzen zumindest bereichsweise beschichtet wird, indem die anorganische Oberfläche (42) mit einem atmosphärischen Plasmastrahl (26, 48) und einem Precursor (28, 50) beaufschlagt wird. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Spritzgussbauteil (64, 70, 90, 110) mit Einlegeteil (40, 72, 92, 112), wobei das Einlegeteil (40, 72, 92, 112) eine zumindest teilweise umspritzte anorganische Oberfläche (42) aufweist und wobei zwischen der anorganischen Oberfläche (42) und dem umspritzten Kunststoff zumindest bereichsweise eine durch Plasmabeschichtung, insbesondere Plasmapolymerisation, aufgebrachte Schicht (44) angeordnet ist.

公开(公告)号：DE102019120896A1

公开(公告)日：2021-02-04

申请号：DE102019120896

申请日：2019-08-02

Applicant: PLASMATREAT GMBH

Inventor： KNOSPE ALEXANDER ,  ASAD SYED SALMAN ,  BUSKE CHRISTIAN ,  GOLDMANN HANNES

IPC: H01M4/139 ,  H01M4/1391 ,  H01M4/1393 ,  H01M4/1395 ,  H01M4/66 ,  H01M10/0525 ,  H01M10/0585

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bereitstellen einer Elektrodenfolie (14, 22, 24, 144, 154) zur Herstellung eines Lithium-Ionen-Akkumulators, bei dem eine Metallfolie (2, 32, 36, 110, 110') mit einer Beschichtung (10, 34, 38, 120, 120', 130, 130') aus Elektrodenmaterial bereitgestellt wird und bei dem die Beschichtung (10, 34, 38, 120', 130, 130') aus Elektrodenmaterial plasmabehandelt wird, wobei die Beschichtung (10, 34, 38, 120', 130, 130') aus Elektrodenmaterial plasmabehandelt wird, indem die Beschichtung (10, 34, 38, 120', 130, 130') mit einem atmosphärischen Plasmastrahl (16, 80, 146) beaufschlagt wird. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Lithium-Ionen-Akkumulators, bei dem eine erste Elektrodenfolie (22, 144) für die negative Elektrode und eine zweite Elektrodenfolie (24, 154) für die positive Elektrode bereitgestellt werden, bei dem die erste und die zweite Elektrodenfolie (22, 24, 144, 154) unter Zwischenlage einer Separatorlage (26, 160) zu einem Folienstapel (30, 158) übereinander angeordnet werden und bei dem der Folienstapel (30, 158) mit einem flüssigen Elektrolyt (44, 170) getränkt wird, wobei die erste und/oder die zweite Elektrodenfolie (22, 24, 144, 154) mit dem zuvor genannten Verfahren bereitgestellt werden.

公开(公告)号：DK3277475T3

公开(公告)日：2019-02-18

申请号：DK16712367

申请日：2016-03-31

Applicant: PLASMATREAT GMBH

Inventor： ENNEKING LEONHARD ,  GRISHIN ARTUR ,  NORDMEYER TIMO ,  MORITZER ELMAR ,  SCHMIDT MARTIN ANDREAS ,  LEISTER CHRISTIAN ,  BUSKE CHRISTIAN ,  KNOSPE ALEXANDER

IPC: B29C45/00 ,  B29C59/14

公开(公告)号：DE112017000515A5

公开(公告)日：2018-10-31

申请号：DE112017000515

申请日：2017-01-25

Applicant: PLASMATREAT GMBH

Inventor： BUSKE CHRISTIAN ,  GRISHIN ARTUR ,  FEHLING KAY ,  KNOSPE ALEXANDER

IPC: B29C45/14

公开(公告)号：DE102017201559A1

公开(公告)日：2018-08-02

申请号：DE102017201559

申请日：2017-01-31

Applicant: FRAUNHOFER GES FORSCHUNG ,  PLASMATREAT GMBH

Inventor： REGULA CHRISTOPH ,  IHDE JÖRG ,  WILKEN RALPH ,  DEGENHARDT JOST ,  KNOSPE ALEXANDER ,  ASAD SYED SALMAN ,  BUSKE CHRISTIAN

IPC: C23C16/30 ,  H01M4/139

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung einer plasmapolymeren Schicht in einem Atmosphärendruckplasma auf einem metallischen Substrat, wobei das Plasma durch eine Entladung zwischen Elektroden erzeugt wird, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine organische Beschichtungsvorläuferverbindung in den Bereich des relaxierenden Plasmas eingespeist und als plasmapolymere Schicht auf dem metallischen Substrat abgeschieden wird, wobei Stickstoff oder Formiergas als Prozessgas verwendet wird und die mindestens eine organische Beschichtungsvorläuferverbindung ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus zyklischen nicht-funktionalisierten Kohlenwasserstoffen und Kohlenwasserstoffen mit mindestens einer funktionellen Gruppe. Die Erfindung betriff überdies einen Artikel, eine Elektrode und einen Kondensator, die jeweils ein metallisches Substrat mit einer Oberfläche und einer plasmapolymeren Schicht auf der Oberfläche umfassen, ein Verfahren zur Herstellung der Elektrode, ein Verfahren zur Herstellung des Kondensators sowie eine Batteriezelle und einen Lithium-Ionen-Akkumulator die die Elektrode umfassen.