公开(公告)号：DE102016104128A1

公开(公告)日：2017-09-07

申请号：DE102016104128

申请日：2016-03-07

Applicant: PLASMATREAT GMBH

Inventor： BUSKE CHRISTIAN ,  BEN SALEM DHIA ,  RAPP CHRISTIN ,  ASAD SYED SALMAN

IPC: C23C4/04 ,  C23C4/134

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten einer Bauteiloberfläche (4), insbesondere mit einer antimikrobiell wirkenden, photokatalytischen Schicht (16, 84), bei dem ein Bauteil (2, 82) mit einer zu beschichtenden Oberfläche (4) bereitgestellt wird, bei dem ein atmosphärischer Plasmastrahl (8, 50) erzeugt wird, bei dem Precursormaterial (14, 54) in den Plasmastrahl (8, 50) eingebracht wird, wobei das Precursormaterial (14, 54) Moleküle umfasst, die ein vorgegebenes chemisches Element aus der Menge der Metalle und Halbleiter enthalten, und bei dem der Plasmastrahl (8, 50) mit dem Precursormaterial (14, 54) auf die zu beschichtende Oberfläche (4) des Bauteils (2, 82) gerichtet wird, so dass sich auf der Oberfläche eine Schicht bildet, wobei das insgesamt in den Plasmastrahl (8, 50) eingebrachte Precursormaterial (14, 54) derart zusammengesetzt ist, dass das Verhältnis der in dem Precursormaterial (14, 54) enthaltenen Moleküle, die das vorgegebene chemische Element enthalten, zur Gesamtzahl der in dem Precursormaterial (14, 54) enthaltenen Moleküle kleiner 1, vorzugsweise kleiner 0,95, insbesondere kleiner 0,9 ist. Die Erfindung betrifft weiterhin ein mit diesem Verfahren beschichtetes Bauteil (80), eine Precursormischung sowie eine Verwendung der Precursormischung.

公开(公告)号：DE102016104130A1

公开(公告)日：2017-09-07

申请号：DE102016104130

申请日：2016-03-07

Applicant: PLASMATREAT GMBH

Inventor： ASAD SYED SALMAN ,  RAPP CHRISTIN ,  BEN SALEM DHIA ,  BUSKE CHRISTIAN

IPC: C23C4/04 ,  C23C4/134

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten einer Bauteiloberfläche (4), bei dem ein Bauteil (2, 82) mit einer zu beschichtenden Oberfläche (4) bereitgestellt wird, bei dem ein atmosphärischer Plasmastrahl (8, 50) erzeugt wird, bei dem in den Plasmastrahl (8, 50) ein erster Precursor (14a, 54) eingebracht wird, der zur Herstellung einer photokatalytischen Schicht auf einer Oberfläche geeignet ist, bei dem gleichzeitig mit dem ersten Precursor (14a, 54) ein zweiter Precursor (14b, 54) in den Plasmastrahl (8, 50) eingebracht wird, wobei der zweite Precursor (14b, 54) zur Herstellung einer funktionalisierten Schicht auf einer Oberfläche geeignet ist, die zu der mit dem ersten Precursor (14a, 54) erzeugbaren Schicht verschiedenartig ist, und bei dem der Plasmastrahl (8, 50) mit dem ersten und zweiten Precursor (14a–b, 50) auf die zu beschichtende Oberfläche (4) des Bauteils (2, 82) gerichtet wird, so dass sich auf der Oberfläche (4) eine Schicht (18, 84) bildet. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur Herstellung eines Beschichtungsmaterials (118) für die Beschichtung einer Bauteiloberfläche, bei dem ein atmosphärischer Plasmastrahl (50, 108) erzeugt wird, bei dem in den Plasmastrahl (50, 108) ein erster Precursor (54, 114a) eingebracht wird, der zur Herstellung einer photokatalytischen Schicht auf einer Oberfläche geeignet ist, bei dem gleichzeitig mit dem ersten Precursor (54, 114a) ein zweiter Precursor (54, 114b) in den Plasmastrahl (50, 108) eingebracht wird, wobei der zweite Precursor (54, 114b) zur Herstellung einer funktionalisierten Schicht auf einer Oberfläche geeignet ist, die zu der mit dem ersten Precursor (54, 114b) erzeugbaren Schicht verschiedenartig ist, und bei dem durch die Wechselwirkung des ersten und des zweiten Precursors (114a–b, 54) mit dem Plasmastrahl (50, 108) ein Beschichtungsmaterial (118) erzeugt wird.