公开(公告)号：CN101193837A

公开(公告)日：2008-06-04

申请号：CN200680020787.1

申请日：2006-05-16

Applicant: SGL碳股份公司

Inventor： O·奥廷格尔 ,  M·克里斯特 ,  L·菲舍尔

IPC: C04B35/536 ,  C23C14/18 ,  C01B31/04 ,  H01R39/24 ,  C04B41/88

CPC classification number: C23C14/562 ,  C04B41/009 ,  C04B41/5155 ,  C04B41/88 ,  C04B2111/00844 ,  C04B2111/00853 ,  C23C14/18 ,  H01M8/0206 ,  H01M8/0213 ,  H01M8/0228 ,  H01M8/0267 ,  Y02P70/56 ,  Y10T428/265 ,  C04B41/4529 ,  C04B35/522

Abstract: 本发明涉及具有至多100nm厚的金属涂层的石墨膜及其制备，例如通过连续蒸镀石墨膜，和其用途。尽管金属层的厚度很小，但石墨膜通过焊接可以相互连接或与其它的金属制或涂敷有金属的材料制的构件连接。此外，薄的金属涂层保护石墨膜的表面，防止颗粒漏出、脱落或剥落。

公开(公告)号：CN1847145A

公开(公告)日：2006-10-18

申请号：CN200510121780.6

申请日：2005-12-15

Applicant: SGL碳股份公司

Inventor： J·戴默尔 ,  L·菲舍尔

IPC: C01B31/04

CPC classification number: C04B35/522 ,  C01B32/215 ,  C04B35/532 ,  C04B2235/48 ,  C04B2235/5427 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/658 ,  C04B2235/6587 ,  C04B2235/725 ,  C25C3/08 ,  F27B17/0016 ,  F27D1/0006 ,  F27D1/04 ,  F27D99/0006 ,  H05B7/085

Abstract: 通过形成生坯、碳化所述生坯、任选通过一次或多次致密化步骤，并且最后将所得碳体在包含基于卤素石墨插层化合物(GIC)的LWG炉中进行石墨化而制备具有尺寸大于200×200×200mm或200mm直径×200mm长并且灰含量低于20ppm的石墨体。