薄膜成形设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1327486A

    公开(公告)日:2001-12-19

    申请号:CN98814345.3

    申请日:1998-12-01

    Applicant: SK株式会社

    Inventor: 金大圆 裵相淳

    CPC classification number: C23C16/24 C23C16/509 H01J37/3244

    Abstract: 一种薄膜成形设备(100)包括界定反应室(101)的壳体;牢固地固定在壳体的反应室(101)内的一对电极(103,104),使它们相互分开一预定距离;以及可拆卸地设置在成对电极(103,104)之间、并具有安装于其上的至少一基体(115)的等离子载体(102),等离子载体(102)和至少一基体(115)相互协作以形成辉光放电空间(120),等离子载体(102)形成有用于使辉光放电空间与外部相连通的多个气体吸入孔(108b)和多个气体排出孔(108b)。根据本发明,在等离子化学蒸发沉积设备中,由等离子载体形成辉光放电空间,从而简化了清洁步骤,并提高了生产率,同时还提供了箱式载体型等离子化学蒸发沉积设备的诸优点。

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