公开(公告)号：US6270857B2

公开(公告)日：2001-08-07

申请号：US37111999

申请日：1999-08-10

Applicant: SONY CORP

Inventor： TONOSAKI MINEHIRO ,  UEDA MITSUNORI ,  KOBAYASHI MASATO ,  OKITA HIROYUKI

IPC: H01J37/317 ,  B29C35/08 ,  B29C59/16 ,  C03C23/00 ,  H01L21/312 ,  C08J2/54 ,  B05D3/06 ,  B05D3/14 ,  C23C14/30 ,  C23C14/48

CPC classification number: C03C23/004 ,  B29C59/16 ,  B29C2035/0877

Abstract: When an insulator is irradiated with an electron beam, a pulse-shape voltage is applied to the insulator from a pulse power source. As a result, a charge-up state of the insulator can be prevented. If an object which must be subjected to surface modification is an insulator, the object can effectively be irradiated with the electron beam to perform the surface modification.

Abstract translation: 当用电子束照射绝缘体时，从脉冲电源向绝缘体施加脉冲形状的电压。 结果，可以防止绝缘体的充电状态。 如果必须进行表面改性的物体是绝缘体，则可以用电子束有效地照射物体进行表面改性。

公开(公告)号：SG50022A1

公开(公告)日：1998-06-15

申请号：SG1997001935

申请日：1997-06-05

Applicant: SONY CORP

Inventor： FUJITA GORO ,  TONOSAKI MINEHIRO

IPC: G11B11/10 ,  G11B7/24 ,  G11B7/26 ,  G11B11/00 ,  G11B11/105