半导体集成器件的接触装置

    公开(公告)号:CN100433296C

    公开(公告)日:2008-11-12

    申请号:CN01823325.2

    申请日:2001-04-19

    CPC classification number: H01L27/11502 H01L21/76877

    Abstract: 一种集成器件具有:一第一导电区(6A);一第二导电区(11A);一绝缘层(9),配置在第一与第二导电区之间;至少一个通孔(35),延伸在第一与第二导电区之间的所述绝缘层(9)之中;以及一接触装置(10A),制成在通孔之中并在电气上连接第一导电区(6A)和第二导电区(11B)。接触装置(10A)由一导电材料层(30)构成,后者敷盖通孔(36)的侧向表面和底部表面并围绕一空置区(35),此空置区在顶部处由第二导电区(11A)封住。导电材料层(30)最好是包括一钛层(31)和一氮化钛层(32),配置得彼此顶部相叠。

    半导体集成器件的接触装置

    公开(公告)号:CN1586005A

    公开(公告)日:2005-02-23

    申请号:CN01823325.2

    申请日:2001-04-19

    CPC classification number: H01L27/11502 H01L21/76877

    Abstract: 一种集成器件具有:一第一导电区(6A);一第二导电区(11A);一绝缘层(9),配置在第一与第二导电区之间;至少一个通孔(35),延伸在第一与第二导电区之间的所述绝缘层(9)之中;以及一接触装置(10A),制成在通孔之中并在电气上连接第一导电区(6A)和第二导电区(11B)。接触装置(10A)由一导电材料层(30)构成,后者敷盖通孔(36)的侧向表面和底部表面并围绕一空置区(35),此空置区在顶部处由第二导电区(11A)封住。导电材料层(30)最好是包括一钛层(31)和一氮化钛层(32),配置得彼此顶部相叠。

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