公开(公告)号：FR2959025B1

公开(公告)日：2013-11-15

申请号：FR1001683

申请日：2010-04-20

Applicant: ST MICROELECTRONICS ROUSSET

Inventor： CONRAUX JEROME ,  FANTAUZZO CHRISTIANE ,  HAMARD PATRICE ,  NUNZI PIERRE ,  REGNIER ARNAUD

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/133

公开(公告)号：FR2959025A1

公开(公告)日：2011-10-21

申请号：FR1001683

申请日：2010-04-20

Applicant: ST MICROELECTRONICS ROUSSET

Inventor： CONRAUX JEROME ,  FANTAUZZO CHRISTIANE ,  HAMARD PATRICE ,  NUNZI PIERRE ,  REGNIER ARNAUD

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/133 ,  G03F1/14

Abstract: L'invention concerne un procédé de photolithographie comprenant des étapes de projection d'un faisceau lumineux (6) au travers d'un masque (3) sur une couche photosensible (9) pour former sur la couche photosensible une image (8) d'un motif de masque (7) formé par le masque, et de commande d'une couche (11) d'éléments actifs (12) du masque, pour que faisceau lumineux après avoir traversé la couche d'éléments actifs reproduise le motif de masque sur la couche photosensible, les éléments actifs étant répartis dans la couche conformément à une organisation matricielle en lignes et en colonnes transversales aux lignes, chaque élément actif étant contrôlé individuellement pour prendre un état transparent à la lumière du faisceau lumineux, ou bien un état opaque ou réfléchissant la lumière du faisceau lumineux, en fonction d'un signal de commande fourni à l'élément actif.