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公开(公告)号:CN100335183C
公开(公告)日:2007-09-05
申请号:CN200510001866.5
申请日:2002-04-19
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 本发明涉及旋转涂敷方法与设备,及用于该方法与设备的掩模。当使用可辐射硬化的液体材料通过旋转涂敷在盘体上实现成膜时,在向安装在用于驱转盘体的旋转器上的盘体的附近供给可辐射硬化的液体材料进行旋转涂敷时,使盘体旋转并通过离心力在盘体上散布液体材料,从而在盘体表面形成液体材料的涂层,在旋转涂敷期间盘体旋转停止之前,向盘体施加具有使可辐射硬化的液体材料硬化的作用的辐射,从而降低了作为向盘体的涂敷而施加的液体材料的流动性。
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公开(公告)号:CN1644247A
公开(公告)日:2005-07-27
申请号:CN200510001866.5
申请日:2002-04-19
Applicant: TDK株式会社
Abstract: 本发明涉及旋转涂敷方法与设备,及用于该方法与设备的掩模。当使用可辐射硬化的液体材料通过旋转涂敷在盘体上实现成膜时,在向安装在用于驱转盘体的旋转器上的盘体的附近供给可辐射硬化的液体材料进行旋转涂敷时,使盘体旋转并通过离心力在盘体上散布液体材料,从而在盘体表面形成液体材料的涂层,在旋转涂敷期间盘体旋转停止之前,向盘体施加具有使可辐射硬化的液体材料硬化的作用的辐射,从而降低了作为向盘体的涂敷而施加的液体材料的流动性。
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