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公开(公告)号：CN100373484C
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200480018848.1
申请日：2004-06-29
Applicant: TDK株式会社
IPC: G11B7/24
CPC classification number: G11B7/252 , G11B7/2403 , G11B7/24065 , G11B7/258 , G11B2007/24308 , G11B2007/2431 , G11B2007/24314 , G11B2007/24316
Abstract: 一种光学记录介质(10)包括支撑基板(11)、透光层(12)、和插入到所述透光层(12)和所述支撑基板(11)之间的第一电介质层(31)、贵金属氧化物层(23)、第二电介质层(32)、光吸收层(22)、第三电介质层(33)、和反射层(21)。所述支撑基板(11)的厚度为0.6mm到2.0mm；所述透光层(12)的厚度为10μm到200μm；所述贵金属氧化物层(23)的厚度为2nm到50nm；所述第二电介质层(32)的厚度为5nm到100nm；所述光吸收层(22)的厚度为5nm到100nm；并且所述第三电介质层(33)的厚度为10nm到140nm。因此，在采用针对下一代光学记录介质的光学系统进行超解析记录和再现时可获得优良的特性。
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公开(公告)号：CN100358031C
公开(公告)日：2007-12-26
申请号：CN200480018577.X
申请日：2004-06-30
Applicant: TDK株式会社
IPC: G11B7/24
CPC classification number: G11B7/00452 , G11B7/24 , G11B7/252 , G11B2007/24308 , G11B2007/2431 , G11B2007/24314 , G11B2007/24316
Abstract: 本发明的目的是提供一种光学记录盘，包括：衬底(2)，第三介电层(3)，光吸收层(4)，第二介电层(5)，含有氧化铂作为主要成分的分解反应层(6)，第一介电层(7)，和光透射层(8)，其中第二介电层具有20nm至100nm的厚度，并且构成该光学记录盘，使得在从光透射层(8)这一侧用激光束(20)照射光学记录盘时，在分解反应层(6)中作为主要成分所含的氧化铂被分解成铂和氧，因此通过由此产生的氧气在分解反应层(6)中形成泡状凹坑，并且贵金属的细小颗粒沉淀在泡状凹坑内，由此在分解反应层(6)中形成了记录标志。
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公开(公告)号：CN1846254A
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：CN200480025272.1
申请日：2004-09-01
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B7/24079 , G11B7/00452 , G11B7/0901 , G11B7/24065
Abstract: 根据本发明的一种光学记录介质(10)，包括：其上形成有凹槽(11a)的支撑基板(11)、透光层(12)，在支撑基板(11)与透光层(12)之间设置的贵金属氧化物层(23)，其中，凹槽(11a)的深度设定为大于λ/8n但小于等于60nm，此处，n是透光层(12)对波长为λ的光的折射率。因此，通过将激光束照射在贵金属氧化物层(23)上，在进行超分辨率记录和超分辨率读取时，可获得良好的信号特性，尤其是有足够幅值的推挽信号。此外，因为凹槽的深度设定为60nm或更小，在生产用于制造基板的模片时不会出现较大的困难。
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公开(公告)号：CN1816455A
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：CN200480018578.4
申请日：2004-06-30
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B7/2433 , B82Y10/00 , G11B7/2403 , G11B7/24065 , G11B7/252 , G11B7/2534 , G11B7/2542 , G11B2007/24314 , G11B2007/24316 , G11B2007/25706 , G11B2007/25708 , G11B2007/2571 , G11B2007/25713 , G11B2007/25715 , G11B2007/25716 , G11B2007/25718
Abstract: 本发明的目的是提供一种光学记录盘，包括：衬底(2)，反射层(3)，第三介电层(4)，光吸收层(5)，第二介电层(6)，含有氧化铂作为主要成分的分解反应层(7)，第一介电层(8)，和光透射层(9)，并且构成该光学记录盘，使得在从光透射层(9)这一侧用激光束(20)照射光学记录盘时，在分解反应层(7)中作为主要成分所含的氧化铂被分解成铂和氧，使得通过由此产生的氧气在分解反应层(7)中形成泡状凹坑，并且贵金属的细小颗粒沉淀在泡状凹坑内，由此在分解反应层(7)中形成了记录标志。
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公开(公告)号：CN100411024C
公开(公告)日：2008-08-13
申请号：CN200480025272.1
申请日：2004-09-01
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B7/24079 , G11B7/00452 , G11B7/0901 , G11B7/24065
Abstract: 根据本发明的一种光学记录介质(10)，包括：其上形成有凹槽(11a)的支撑基板(11)、透光层(12)，在支撑基板(11)与透光层(12)之间设置的贵金属氧化物层(23)，其中，凹槽(11a)的深度设定为大于λ/8n但小于等于60nm，此处，n是透光层(12)对波长为λ的光的折射率。因此，通过将激光束照射在贵金属氧化物层(23)上，在进行超分辨率记录和超分辨率读取时，可获得良好的信号特性，尤其是有足够幅值的推挽信号。此外，因为凹槽的深度设定为60nm或更小，在生产用于制造基板的模片时不会出现较大的困难。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1816859A
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：CN200480018848.1
申请日：2004-06-29
Applicant: TDK株式会社
IPC: G11B7/24
CPC classification number: G11B7/252 , G11B7/2403 , G11B7/24065 , G11B7/258 , G11B2007/24308 , G11B2007/2431 , G11B2007/24314 , G11B2007/24316
Abstract: 一种光学记录介质(10)包括支撑基板(11)、透光层(12)、和插入到所述透光层(12)和所述支撑基板(11)之间的第一电介质层(31)、贵金属氧化物层(23)、第二电介质层(32)、光吸收层(22)、第三电介质层(33)、和反射层(21)。所述支撑基板(11)的厚度为0.6mm到2.0mm；所述透光层(12)的厚度为10μm到200μm；所述贵金属氧化物层(23)的厚度为2nm到50nm；所述第二电介质层(32)的厚度为5nm到100nm；所述光吸收层(22)的厚度为5nm到100nm；并且所述第三电介质层(33)的厚度为10nm到140nm。因此，在采用针对下一代光学记录介质的光学系统进行超解析记录和再现时可获得优良的特性。
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公开(公告)号：CN1816857A
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：CN200480018579.9
申请日：2004-06-30
Applicant: TDK株式会社
IPC: G11B7/24
CPC classification number: G11B7/243 , G11B7/00452 , G11B2007/24304 , G11B2007/24314 , G11B2007/24316 , G11B2007/25706 , G11B2007/25715
Abstract: 本发明的目的是提供一种光学记录盘，包括：衬底(2)，第三介电层(3)，光吸收层(4)，第二介电层(5)，含有氧化铂作为主要成分的分解反应层(6)，第一介电层(7)，和光透射层(8)，并且构成该光学记录盘，使得在从光透射层(8)这一侧用激光束(20)照射光学记录盘时，在分解反应层(6)中作为主要成分所含的氧化铂被分解成铂和氧，因此通过由此产生的氧气在分解反应层(6)中形成泡状凹坑，并且贵金属的细小颗粒沉淀在泡状凹坑内，由此在分解反应层(6)中形成了记录标志。
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公开(公告)号：CN100411032C
公开(公告)日：2008-08-13
申请号：CN200480023616.5
申请日：2004-08-12
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B7/243 , G11B7/24065
Abstract: 一种光学记录介质(10)，设有支撑基板(11)和透光层(12)，以及，在透光层(12)与支撑基板(11)之间进一步具有电介质层(31)、贵金属氧化物层(23)、电介质层(32)、光吸收层(22)和电介质层(33)。第二电介质层(32)包含ZnS或者ZnS和SiO2的混合物作为主要成分，并且在其中将ZnS占ZnS和SiO2总量的比设定成摩尔百分比60%至100%。因为第二电介质层(32)的材料具备较高的硬度和柔软性两者，除此之外还具有较高的热传导率，能达到热传导率与层硬度的良好平衡，所以，可以用精确形状形成精细的记录标记。
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公开(公告)号：CN100361216C
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200480018579.9
申请日：2004-06-30
Applicant: TDK株式会社
IPC: G11B7/24
CPC classification number: G11B7/243 , G11B7/00452 , G11B2007/24304 , G11B2007/24314 , G11B2007/24316 , G11B2007/25706 , G11B2007/25715
Abstract: 本发明的目的是提供一种光学记录盘，包括：衬底(2)，第三介电层(3)，光吸收层(4)，第二介电层(5)，含有氧化铂作为主要成分的分解反应层(6)，第一介电层(7)，和光透射层(8)，并且构成该光学记录盘，使得在从光透射层(8)这一侧用激光束(20)照射光学记录盘时，在分解反应层(6)中作为主要成分所含的氧化铂被分解成铂和氧，因此通过由此产生的氧气在分解反应层(6)中形成泡状凹坑，并且贵金属的细小颗粒沉淀在泡状凹坑内，由此在分解反应层(6)中形成了记录标志。
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公开(公告)号：CN101009117A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：CN200610001775.6
申请日：2006-01-25
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: G11B7/00452 , G11B7/243 , G11B2007/2432
Abstract: 一种光学记录介质包含一个层叠体，其中在该层叠体的记录层7和光吸收层5之间至少插入一个电介质层6，该光学记录介质被构成为来再现用记录标记串记录的数据，其中的记录标记串包含长度小于解析极限的记录标记。为了再现记录的数据，该光学记录介质的反射率为20％到80％，且以5.6×108W/m2到1.2×1010W/m2的功率密度照射激光束。
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