포지티브형 감광성 수지 조성물, 그의 경화막 및 그것을 구비하는 고체 촬상 소자

    公开(公告)号:KR20200138208A

    公开(公告)日:2020-12-09

    申请号:KR20207026691

    申请日:2019-03-27

    Abstract: 본발명은광투과성이높고, 고내열이고, 패턴가공성이우수한포지티브형의감광성수지조성물을제공하는것. 본발명은폴리실록산 (A), 나프토퀴논디아지드화합물 (B) 및용제 (C)를함유하는포지티브형감광성수지조성물이며, 해당폴리실록산 (A)가, 하기일반식 (1) 내지 (3)으로부터선택되는 1종이상의구조를포함하고, 또한하기일반식 (4) 내지 (6)으로부터선택되는 1종이상의구조를포함하는것인포지티브형감광성수지조성물이다. JPEGpct00013.jpg32120 (일반식 (1) 내지 (3)에있어서 R4는, 탄소수 2 내지 6의불포화이중결합을갖는탄화수소기이고, R1은단결합, 또는탄소수 1 내지 4의알킬렌기, 식 (2)의 R2는수소또는탄소수 1 내지 4의알킬기를나타낸다. 일반식 (3)에있어서 R3은유기기를나타낸다.) JPEGpct00014.jpg30135 (일반식 (5)에있어서 R2는수소, 또는탄소수 1 내지 4의알킬기. 일반식 (6)에있어서 R3은유기기를나타낸다.)

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