公开(公告)号：WO2016096735A1

公开(公告)日：2016-06-23

申请号：PCT/EP2015/079605

申请日：2015-12-14

Applicant: UNIVERSITÄT ULM

Inventor： STREHLE, Steffen ,  ROSSKOPF, Daniel Markus ,  PROBST, Andreas Magnus

IPC: B82B3/00 ,  B81C1/00 ,  H01L21/768 ,  H05K3/20

CPC classification number: B05D1/28 ,  B81C1/00373 ,  B81C2201/0185 ,  B81C2201/0187 ,  B82B3/0066 ,  H05K1/0306 ,  H05K1/09 ,  H05K3/102 ,  H05K3/1275 ,  H05K2201/026 ,  H05K2201/09036 ,  H05K2201/09045 ,  H05K2203/0108 ,  H05K2203/0271 ,  H05K2203/0528

Abstract: Erfindungsgemäß wird ein Verfahren zur Herstellung eines mit Nanodrähten strukturierten Substrats bereitgestellt, das dadurch gekennzeichnet ist, dass in dem Verfahren kein Gleitmittel und keine lithographische Lackmaske verwendet wird und nur durch das Bewegen eines Donorsubstrats mit Nanodrähten relativ zu einem Substrat und lokal unterschiedliche tribologische Eigenschaften auf der Oberfläche des Substrats selektiv an lokal definierten Stellen des Substrats eine bestimmte Anzahl Nanodrähte abgelegt wird. Zudem wird ein Substrat bereitgestellt, das durch das erfindungsgemäße Verfahren herstellbar ist und an einer Oberfläche selektiv an lokal definierten Stellen eine bestimmte Anzahl Nanodrähte enthält. Ferner wird die Verwendung des erfindungsgemäßen Substrats in der Mikroelektronik, Mikrosystemtechnik und/oder Mikrosensorik vorgeschlagen.

Abstract translation: 根据本发明的形成的方法的与纳米线基底图案设置，其特征在于，没有润滑剂和无光刻抗蚀剂掩模在该过程中，只有通过用相对的纳米线的供体基板移动到基材上并在局部不同的摩擦特性使用 衬底到衬底的纳米线的一定数目的将被选择性地沉积的局部定义的区域的表面上。 此外，提供了一种衬底，其可以通过本发明的方法和到本地定义的位置来生产含有一定数目选择性纳米线的表面。 此外，根据本发明在微电子使用所述基板的，微系统技术和/或微传感器提出。

公开(公告)号：EP3233718B1

公开(公告)日：2020-07-15

申请号：EP15817137.1

申请日：2015-12-14

Applicant: Universität Ulm

Inventor： STREHLE, Steffen ,  ROSSKOPF, Daniel Markus ,  PROBST, Andreas Magnus

IPC: B81C1/00 ,  B82B3/00 ,  H05K3/12 ,  H05K3/10

公开(公告)号：EP3233718A1

公开(公告)日：2017-10-25

申请号：EP15817137.1

申请日：2015-12-14

Applicant: Universität Ulm

Inventor： STREHLE, Steffen ,  ROSSKOPF, Daniel Markus ,  PROBST, Andreas Magnus

IPC: B82B3/00 ,  B81C1/00 ,  H01L21/768 ,  H05K3/20

Abstract: The invention relates to a method for producing a substrate structured by nanowires, characterized in that no lubricant and no lithographic resist mask is used in the method, and only by moving a donor substrate having nanowires relative to a substrate and by locally tribological properties on the surface of the substrate, a specified number of nanowires is deposited selectively at locally defined points of the substrate. The invention further relates to a substrate that can be produced using the method according to the invention, and which selectively contains a specified number of nanowires on a surface at locally defined points. The invention further relates to the use of the substrate according to the invention in microelectronics, microsystems technology, and/or micro-sensor systems.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造由纳米线构造的基板的方法，其特征在于，在该方法中不使用润滑剂且不使用光刻抗蚀剂掩模，并且仅通过相对于基板移动具有纳米线的供体基板和通过局部摩擦学特性 在衬底的表面上，特定数量的纳米线选择性地沉积在衬底的局部限定的点处。 本发明进一步涉及可以使用根据本发明的方法制造的基板，并且其在局部限定的点处在表面上选择性地包含特定数量的纳米线。 本发明进一步涉及根据本发明的衬底在微电子学，微系统技术和/或微传感器系统中的用途。