公开(公告)号：CL2017002046A1

公开(公告)日：2018-02-16

申请号：CL2017002046

申请日：2017-08-10

Applicant: VALSPAR SOURCING INC

Inventor： GELLING VICTORIA J ,  DEBROY TAPAN ,  REN CHUN

IPC: B01J23/18 ,  C08G18/22 ,  C08G18/80 ,  C08G59/68 ,  C25D13/06 ,  C25D13/10

Abstract: SE DESCRIBE UN SISTEMA DE ELECTRO REVESTIMIENTO PARA ELECTRODEPOSICIÓN. EL SISTEMA INCLUYE UN COMPUESTO QUE CONTIENE BISMUTO INORGÁNICO A UNA MEZCLA DE COMPUESTOS QUE CONTIENEN BISMUTO INORGÁNICO Y ORGÁNICO. EL SISTEMA DEMUESTRA UN ALTO GRADO DE RETICULACIÓN Y PRODUCE UN REVESTIMIENTO CURADO CON UNA ÓPTIMA RETICULACIÓN Y RESISTENCIA A LA CORROSIÓN.

公开(公告)号：CA2983114A1

公开(公告)日：2016-11-24

申请号：CA2983114

申请日：2016-05-23

Applicant: VALSPAR SOURCING INC

Inventor： GELLING VICTORIA J ,  DEBROY TAPAN ,  REN CHUN ,  MESSIN MALLORY

IPC: C09D5/14 ,  A01N59/16 ,  A01P1/00

Abstract: A microbe-resistant coating composition or paint including an antimicrobial agent is described. The antimicrobial agent is an inorganic bismuth-containing compound, and may be used in conjunction with other bismuth-containing compounds or other biocidal agents or methods. A method of treating an electrodeposition system for bacterial and/or fungal contamination is also described by adding an antimicrobial agent to at least a portion of the electrodeposition system.

公开(公告)号：MY184093A

公开(公告)日：2021-03-17

申请号：MYPI2017702496

申请日：2016-02-10

Applicant: VALSPAR SOURCING INC

Inventor： GELLING VICTORIA J ,  DEBROY TAPAN ,  REN CHUN

Abstract: An electrocoat system for electrodeposition is described. The system includes an inorganic bismuth-containing compound or a mixture of inorganic and organic bismuth-containing compounds. The system demonstrates a high degree of crosslinking and produces a cured coating with optimal crosslinking and corrosion resistance.

公开(公告)号：CO2017007715A2

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：CO2017007715

申请日：2017-07-31

Applicant: VALSPAR SOURCING INC

Inventor： GELLING VICTORIA J ,  DEBROY TAPAN ,  REN CHUN

IPC: B01J23/18 ,  C08G18/22 ,  C08G18/80 ,  C08G59/68 ,  C25D13/06 ,  C25D13/10

Abstract: Se describe un sistema de electrorrevestimiento para electrodeposición. El sistema incluye un compuesto que contiene bismuto inorgánico o una mezcla de compuestos que contienen bismuto inorgánico y orgánico. El sistema demuestra un alto grado de reticulación y produce un revestimiento curado con una óptima reticulación y resistencia a la corrosión.

公开(公告)号：CA2973766A1

公开(公告)日：2016-08-18

申请号：CA2973766

申请日：2016-02-10

Applicant: VALSPAR SOURCING INC

Inventor： GELLING VICTORIA J ,  DEBROY TAPAN ,  REN CHUN

IPC: C09D7/12 ,  B01J23/18 ,  C08G18/22 ,  C08G18/80 ,  C08G59/68 ,  C25D13/06 ,  C25D13/10

Abstract: An electrocoat system for electrodeposition is described. The system includes an inorganic bismuth-containing compound or a mixture of inorganic and organic bismuth- containing compounds. The system demonstrates a high degree of crosslinking and produces a cured coating with optimal crosslinking and corrosion resistance.

公开(公告)号：MX2015016302A

公开(公告)日：2016-03-21

申请号：MX2015016302

申请日：2014-05-22

Applicant: VALSPAR SOURCING INC

Inventor： BOESPFLUG DONALD W ,  DEBROY TAPAN ,  HARTINGER DAN

IPC: C09D175/04 ,  C08G18/48

Abstract: Se describe una composición de uretano útil en una variedad de aplicaciones tales como, por ejemplo, como revestimiento de aplicación directa a metal, es decir, una composición de revestimiento que puede aplicarse directamente a la superficie de un sustrato metálico sin un imprimador o pretratamiento. La composición de revestimiento incluye, preferentemente, un poliol que es el producto de reacción de una resma de Fórmula general (I) con un ácido o un diol, respectivamente, con la reacción que se lleva a cabo en presencia de un catalizador. La composición de revestimiento incluye, además, un compuesto con el grupo funcional isocianato como agente de reticulación. La composición de revestimiento forma una película resistente a la corrosión cuando se aplica directamente a la superficie del sustrato sin un pretratamiento o imprimador.

公开(公告)号：EP3004267A4

公开(公告)日：2016-12-28

申请号：EP14808165

申请日：2014-05-22

Applicant: VALSPAR SOURCING INC

Inventor： BOESPFLUG DONALD W ,  DEBROY TAPAN ,  HARTINGER DAN

IPC: C09D175/04 ,  C08G18/48

CPC classification number: C09D175/08 ,  C08G18/542 ,  C08G18/58 ,  C09D175/04

Abstract: A urethane composition useful in a variety of applications such as, for example, as a direct-to-metal coating, i.e. a coating composition that can be applied directly to the surface of a metal substrate without a primer or pretreatment is described. The coating composition preferably includes a polyol that is the reaction product of a resin of general formula (I) with an acid or a diol respectively, with the reaction being carried out in the presence of a catalyst. The coating composition also includes an isocyanate-functional compound as a crosslinker. The coating composition forms a corrosion-resistant film when applied directly to the substrate surface without a pretreatment or primer.