公开(公告)号：TWI339643B

公开(公告)日：2011-04-01

申请号：TW092105923

申请日：2003-03-18

Applicant: W.R.康格雷氏公司

Inventor： 丹尼爾瑞福魯吉 ,  迪米楚斯米裘斯

IPC: C01B

CPC classification number: B41M5/5218 ,  B41M5/52

Abstract: 本發明描述一種包含相當低鹼的陽離子膠狀矽石之被覆組成物及從此被覆所製備之噴墨記錄片。該被覆包含一黏著劑及一陽離子膠狀矽石，該矽石之平均粒度範圍較佳為約1至約300奈米，且其固體與鹼金屬之比率至少為Aw(-0.013SSA+9)的總和，AW為存在於該膠狀矽石中之鹼金屬的原子重量及SSA為該矽石的比表面積。已發現的是若該膠狀矽石的鹼金屬(例如，鈉)含量減低，則從此膠狀矽石所製備且可塗佈至習知的噴墨記錄片支持物之被覆將可在60℃下提供至少30的鏡面光澤，甚至是在相當高的矽石固體與黏著劑固體的比率下(1：1或更大)。

Abstract in simplified Chinese: 本发明描述一种包含相当低碱的阳离子胶状硅石之被覆组成物及从此被覆所制备之喷墨记录片。该被覆包含一黏着剂及一阳离子胶状硅石，该硅石之平均粒度范围较佳为约1至约300奈米，且其固体与碱金属之比率至少为Aw(-0.013SSA+9)的总和，AW为存在于该胶状硅石中之碱金属的原子重量及SSA为该硅石的比表面积。已发现的是若该胶状硅石的碱金属(例如，钠)含量减低，则从此胶状硅石所制备且可涂布至习知的喷墨记录片支持物之被覆将可在60℃下提供至少30的镜面光泽，甚至是在相当高的硅石固体与黏着剂固体的比率下(1：1或更大)。