一种光学薄膜涂布复合机

    公开(公告)号:CN106984488A

    公开(公告)日:2017-07-28

    申请号:CN201710360432.7

    申请日:2017-05-21

    Inventor: 郭峰 王华 陈旭

    CPC classification number: B05C1/10 B05C9/12 B05C11/10 B05C11/1042 B05D3/148

    Abstract: 本发明公开了一种光学薄膜涂布复合机,包括涂布机架、涂布机构和电晕处理装置,所述涂布机架前端设置有电晕处理装置,涂布机架顶部左侧对应电晕处理装置出口设置有张力测量器,张力测量器右侧的涂布机架上依次设置有薄膜导入辊和张力调节辊,张力调节辊下部设置有薄膜展平辊,薄膜展平辊右侧上方设置有涂布导向辊,涂布导向辊右侧下方位于涂布机架出口处设置有薄膜导出辊,所述涂布导向辊上方对应设置有涂布机构,所述涂布机构包括与涂布机架固定的涂布筒体,涂布筒体下方设置有沿薄膜宽度方向延伸的涂布管体,本发明结构布置合理,涂层分布均匀无气泡,降低涂布溶液温度损失,有效保证薄膜表面成膜质量。

    成形物、成形物的制备方法、电子装置元件和电子装置

    公开(公告)号:CN102387921B

    公开(公告)日:2015-02-11

    申请号:CN201080015944.6

    申请日:2010-03-24

    CPC classification number: C23C14/48 B05D1/62 B05D3/148 B05D2252/02 C23C14/562

    Abstract: 本发明公开了一种成形体,其特征在于具有通过将烃化合物的离子注入到含聚有机硅氧烷化合物的层得到的层。本发明也公开了:所述成形物的制备方法,所述方法包括将烃化合物的离子注入成形体的含聚有机硅氧烷化合物的层的表面部分的步骤,所述成形体在表面具有含聚有机硅氧烷化合物的层;一种由所述成形物组成的电子装置元件;和一种提供有所述电子装置元件的电子装置。因此,本发明提供:具有优良的阻气性质、透明度、弯曲性质、抗静电性质和表面平滑性的成形体;所述成形物的制备方法;由所述成形体组成的电子装置元件和提供有所述电子装置元件的电子装置。

    阻气性膜的制造方法及具备阻气性膜的电子构件或光学构件

    公开(公告)号:CN104114287A

    公开(公告)日:2014-10-22

    申请号:CN201280058407.9

    申请日:2012-11-28

    CPC classification number: C23C14/48 B05D3/148 B05D7/04 C23C18/122 C23C28/00

    Abstract: 本发明是阻气性膜的制造方法、以及具备由本发明制得的阻气性膜的电子构件或光学构件。所述阻气性膜的制造方法是至少具有包含合成树脂的基材、和在该基材上形成的阻气层的阻气性膜的制造方法,其特征在于,具有下述工序1、2。由本发明制得的阻气性膜即使在高温·高湿条件下也不会发生阻气层与基材的密合不良的问题。(工序1)是下述工序:在所述基材上涂装含有硅系高分子化合物和有机溶剂的硅系高分子化合物溶液,将得到的硅系高分子化合物溶液的涂膜加热干燥,由此形成含有硅系高分子化合物的层,所述基材与有机溶剂的组合是将所述基材在23℃下浸渍于该有机溶剂中72小时时测量的、所述基材的凝胶分数为70%以上、低于98%的组合;(工序2)是下述工序:通过对含有形成有硅系高分子化合物的层进行等离子体处理而形成阻气层。

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