金属氧化物/光致抗蚀膜积层体的干蚀刻方法

    公开(公告)号:CN1213708A

    公开(公告)日:1999-04-14

    申请号:CN98117918.5

    申请日:1998-08-08

    CPC classification number: H01L31/1884 H01L21/32136 Y02E10/50

    Abstract: 使用由从氟气和氟化物气组和氮气和氮化合物气组中选出的至少1种气体与碘化氢混合的气体所形成的等离子体,对没有被光致抗蚀膜覆盖的暴露金属氧化物进行干蚀刻。接着,将该蚀膜暴露于氧等离子体中后,再使用由氟气和氟化物气组和氮气和氮化合物气组中选出的至少1种气体与氧气混合气体的等离子体,蚀刻去除残留的抗蚀膜。至少,规定从氟气和氟化物气组,氮气和氮化合物气组中选出的气体和碘化氢或氧气的流量条件,必须满足特定的范围。

    气体生成装置以及气体生成方法

    公开(公告)号:CN102482789A

    公开(公告)日:2012-05-30

    申请号:CN201080039759.0

    申请日:2010-09-08

    CPC classification number: C25B1/003 Y02E60/364 Y02E60/368

    Abstract: 本发明提供从含水电解液(12)生成氧气和/或氢气的气体生成装置,其具备阳极电极(2)、阴极电极(3)、多个贯通孔和气体收容部(21)。阳极电极(2)(光催化剂负载电极)具有含光催化剂层,该含光催化剂层含有通过光催化反应而从电解液(12)生成氧气的光催化剂。阴极电极(3)从通过含光催化剂层的光催化反应而在电解液(12)中生成的氢离子和电子来生成氢气。贯通孔设置在阳极电极(2)或者阴极电极(3)的至少一方,其不使电解液(12)通过且使所生成的氧气或者氢气通过。而且,气体收容部(21)收容通过了贯通孔的氧气或者氢气。

    气体生成装置以及气体生成方法

    公开(公告)号:CN102482789B

    公开(公告)日:2014-10-01

    申请号:CN201080039759.0

    申请日:2010-09-08

    CPC classification number: C25B1/003 Y02E60/364 Y02E60/368

    Abstract: 本发明提供从含水电解液(12)生成氧气和/或氢气的气体生成装置,其具备阳极电极(2)、阴极电极(3)、多个贯通孔和气体收容部(21)。阳极电极(2)(光催化剂负载电极)具有含光催化剂层,该含光催化剂层含有通过光催化反应而从电解液(12)生成氧气的光催化剂。阴极电极(3)从通过含光催化剂层的光催化反应而在电解液(12)中生成的氢离子和电子来生成氢气。贯通孔设置在阳极电极(2)或者阴极电极(3)的至少一方,其不使电解液(12)通过且使所生成的氧气或者氢气通过。而且,气体收容部(21)收容通过了贯通孔的氧气或者氢气。

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