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公开(公告)号：CN1213708A
公开(公告)日：1999-04-14
申请号：CN98117918.5
申请日：1998-08-08
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: C23F1/12
CPC classification number: H01L31/1884 , H01L21/32136 , Y02E10/50
Abstract: 使用由从氟气和氟化物气组和氮气和氮化合物气组中选出的至少1种气体与碘化氢混合的气体所形成的等离子体,对没有被光致抗蚀膜覆盖的暴露金属氧化物进行干蚀刻。接着,将该蚀膜暴露于氧等离子体中后,再使用由氟气和氟化物气组和氮气和氮化合物气组中选出的至少1种气体与氧气混合气体的等离子体,蚀刻去除残留的抗蚀膜。至少,规定从氟气和氟化物气组,氮气和氮化合物气组中选出的气体和碘化氢或氧气的流量条件,必须满足特定的范围。
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