公开(公告)号：CN1743495A

公开(公告)日：2006-03-08

申请号：CN200510096608.X

申请日：2005-08-25

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 宋官燮 ,  金度根 ,  安宰弘 ,  康熙哲 ,  郑锡宪

IPC: C23C14/12 ,  C23C14/24

Abstract: 一种有机物蒸镀装置，以将衬底大致垂直竖起的状态蒸镀有机物，形成有机薄膜，可适用于大型衬底，且可形成均匀厚度的有机薄膜。本发明的有机物蒸镀装置具有：腔，其构成壳体并且使衬底维持在相对于地面成70°～110°的角度；有机物存储部，其由接收向上述衬底上蒸镀的有机物的至少一个有机物存储位置构成；有机物喷嘴部，其喷射向上述衬底上蒸镀的有机物；连接线路，其将上述有机物喷嘴部和有机物存储部连接；运送装置，其可使上述有机物存储部、有机物喷嘴部及连接线中的至少上述有机物喷嘴沿垂直方向移动。

公开(公告)号：CN1952206A

公开(公告)日：2007-04-25

申请号：CN200610140238.X

申请日：2006-10-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 许明洙 ,  安宰弘 ,  韩尚辰

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54 ,  C23C14/04 ,  C23C14/12

CPC classification number: C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  C23C14/243 ,  C23C14/541

Abstract: 本发明提供了一种用于沉积薄膜的设备和方法，该设备包括：处理室，具有膜形成部分和沉积防止部分，沉积防止部分在膜形成部分的周边；蒸发源，与处理室流动相通，用于容纳沉积材料；吸热板，形成在处理室的沉积防止部分中，其中，吸热板设置成围绕位于处理室的膜形成部分中的基底。

公开(公告)号：CN1990902A

公开(公告)日：2007-07-04

申请号：CN200610169203.9

申请日：2006-12-20

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 许明洙 ,  古野和雄 ,  翰尚辰 ,  安宰弘 ,  郑锡宪

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54 ,  C23C14/12

CPC classification number: C23C14/12 ,  C23C14/243

Abstract: 本发明公开了一种蒸发源和用于沉积薄膜的方法，该蒸发源包括：熔罐，具有用于放置沉积材料的预定空间和至少一个遮挡件，遮挡件位于熔罐内部，并与所述预定空间平行，以将熔罐划分成多个通道；加热单元；至少一个喷嘴，与熔罐流体连通，喷嘴具有多个喷口。

公开(公告)号：CN1818127A

公开(公告)日：2006-08-16

申请号：CN200510121705.X

申请日：2005-12-01

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金度根 ,  安宰弘 ,  宋官燮 ,  许明洙 ,  郑锡宪

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/56

CPC classification number: C23C14/12 ,  C23C14/24 ,  C23C14/243

Abstract: 一种具有稳定沉积速度和高重现性的沉积源，以及一种包括沉积源的沉积设备，其中该沉积源包括：具有线形开孔部分的加热室；和包括多个孔并与加热室线形开孔部分相连的盖。盖上形成的孔之间的距离沿加热室的线形开孔部分的长边方向变化。盖上形成的孔的数量沿加热室的线形开孔部分的长边方向也可发生变化。

公开(公告)号：CN1782120A

公开(公告)日：2006-06-07

申请号：CN200510126935.5

申请日：2005-11-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 安宰弘 ,  李星昊 ,  郑锡宪 ,  赵源锡 ,  康熙哲

IPC: C23C14/24

Abstract: 本发明提供一种蒸发源和具备该蒸发源的蒸镀装置，其能通过使用反射板来有效提高喷嘴的热量，从而防止蒸镀物质在喷嘴处凝缩。本发明的蒸发源包括：蒸镀物质贮藏部，其放置有蒸镀物质并且局部开口；喷嘴部，其具有连结在所述蒸镀物质贮藏部的开口的部分上并用于喷射所述蒸镀物质的开口部；反射板，其把所述喷嘴部的至少一部分的角部包围；壳体，其包围所述蒸镀物质贮藏部包围；加热部，其位于所述壳体与所述蒸镀物质贮藏部之间。本发明的蒸镀装置具备所述蒸发源。另外，本发明的有机物蒸发源由于改善所述有机物贮藏部和喷嘴部的材质并在它们的表面上附有防止有机物泄漏部件，所以，提高了喷嘴部和有机物贮藏部的导热性，并防止了有机物的泄漏。

公开(公告)号：CN1831185A

公开(公告)日：2006-09-13

申请号：CN200510098036.9

申请日：2005-07-01

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 安宰弘 ,  李星昊 ,  赵源锡

IPC: C23C14/24

Abstract: 一种蒸发源组件及使用该蒸发源组件的蒸镀装置。构成蒸发源组件的外部壳体具有设有导引部且所述导引部的延长线朝向相同位置的遮蔽件(shield)，以规定的角度使构成所述蒸发源组件的蒸发源所具有的喷咀部的通孔倾斜，由此，通过导引从所述各个蒸发源排出的蒸镀物质，使其蒸镀在被蒸镀基板的同一区域，从而形成具有均匀粗糙度且具有均匀厚度的薄膜。

公开(公告)号：CN1800434A

公开(公告)日：2006-07-12

申请号：CN200610000374.9

申请日：2006-01-06

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 黄珉婷 ,  宋官燮 ,  金度根 ,  安宰弘 ,  李星昊

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/54

Abstract: 本发明提供了一种用于控制喷射器的方法。在控制沉积系统中的包括熔罐、引导通路和喷射喷嘴的喷射器的方法中，加热引导通路和喷射喷嘴。在加热引导通路和喷射喷嘴后加热熔罐。此外，在冷却包括熔罐、引导通路和喷射喷嘴的喷射器中，冷却熔罐。在冷却熔罐后，冷却引导通路和喷射喷嘴。这种方法的优点在于通过防止由熔罐中蒸发的沉积材料导致喷射喷嘴形成阻塞或喷溅来提高形成在基底上的有机层的均匀性。

公开(公告)号：CN1740378A

公开(公告)日：2006-03-01

申请号：CN200510093332.X

申请日：2005-08-25

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 许明洙 ,  韩尚辰 ,  安宰弘 ,  郑锡宪 ,  金度根

IPC: C23C14/12 ,  C23C14/24

Abstract: 本发明提供一种将基片直立为约垂直的状态下蒸镀有机物而形成有机薄膜的有机物蒸镀装置，以此不仅可以适用于大型基片，而且可以形成厚度均匀的有机薄膜。本发明所提供的有机物蒸镀装置，包含：室，用于形成壳体并使基片相对地面保持在70°至110°角度；有机物存入部，由用于接收需要蒸镀所述基片上有机物的至少一个有机物存入处组成；有机物喷嘴部，用于喷射需要蒸镀到所述基片上的有机物；连接管道，用于连接所述有机物喷嘴部和有机物存入部；移送装置，用于在所述有机物存入部、有机物喷嘴部和连接管道之中至少可以将所述有机物喷嘴部按垂直方向移动。