公开(公告)号：CN111212881A

公开(公告)日：2020-05-29

申请号：CN201880066432.9

申请日：2018-02-13

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 卢健培 ,  郭泽秀 ,  张俊英 ,  具仑永 ,  金龙国 ,  金真教 ,  裵镇希 ,  司空峻 ,  徐珍雨 ,  沈秀妍 ,  尹熙灿 ,  李知虎 ,  韩权愚 ,  黄丙奎

IPC: C09D183/16 ,  H01L21/02 ,  H01L21/306

Abstract: 提供了一种用于形成二氧化硅膜的组合物，该组合物含有含硅聚合物和溶剂，其中由用于形成二氧化硅膜的组合物形成的二氧化硅膜满足关系式1。关系式1的定义如说明书中的描述。