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公开(公告)号：CN101072858A
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN200580041246.2
申请日：2005-12-27
Applicant: 三洋化成工业株式会社 , 三菱电机株式会社
IPC: C11D1/722
CPC classification number: C11D1/722
Abstract: 本发明的目的在于提供可以容易地获得微小气泡、且使所得微小气泡长时间稳定的效果高的表面活性剂。本发明涉及微小气泡产生用表面活性剂，其特征在于，含有下述通式(1)所示的含有活性氢原子的化合物(a)的(聚)氧化烯加成物(A)，该(A)的0.02重量％水溶液在20℃下通过Ross－Miles试验测定的起泡力为50mm以下。Z－[(AO)n－H]p(1)(式中，Z为从p价的含有活性氢原子的化合物(a)中除去活性氢原子而剩下的残基；A为碳数为1～8的亚烷基；n为1～400的整数；p为1～100的整数)。
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公开(公告)号：CN102869470A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201080066285.9
申请日：2010-04-21
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: B23H1/10
Abstract: 一种放电加工装置，其向加工电极和被加工物之间的加工间隙供给加工液而进行放电加工，该放电加工装置具有：气泡产生单元，其在加工液中产生气泡；贮藏单元，其对含有由上述气泡产生单元产生的上述气泡的上述加工液进行贮藏；以及流速调节单元，其对在上述贮藏单元中流动的上述加工液的流速进行调节，上述流速调节单元对应于向设置有上述被加工物的加工槽供给的上述加工液中含有的上述气泡的直径，对上述加工液的上述流速进行调节。
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公开(公告)号：CN101384763A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200780005688.0
申请日：2007-08-01
Abstract: 本发明以能够减少使用水量，降低波轮驱动马达的负载，以及提高干燥性能，进一步洗净贮水槽的内面为目的。本发明中，波轮4具有通过使上面的一端侧低，使与之相对的该上面的另一端侧高，来将表面4A形成为倾斜面的基座部4a、竖立设置在基座部4a的倾斜面上，沿着该倾斜面的倾斜方向的翼部4b。再有，在波轮40的下面设置多个叶片41，在其下端设置圆环状板42，形成多个大致平截头棱锥体状的加速流路43。在洗涤槽30的内面形成循环水路50，在该范围设置多个喷射孔70。因为在波轮40的周围，除循环水路50以外，被壳体60包围，所以，因波轮40的旋转而被排出的洗涤水流入循环水路50，从形成于洗涤圆筒部33的喷射孔70向贮水槽20喷射。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102869470B
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：CN201080066285.9
申请日：2010-04-21
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: B23H1/10
Abstract: 一种放电加工装置，其向加工电极和被加工物之间的加工间隙供给加工液而进行放电加工，该放电加工装置具有：气泡产生单元，其在加工液中产生气泡；贮藏单元，其对含有由上述气泡产生单元产生的上述气泡的上述加工液进行贮藏；以及流速调节单元，其对在上述贮藏单元中流动的上述加工液的流速进行调节，上述流速调节单元对应于向设置有上述被加工物的加工槽供给的上述加工液中含有的上述气泡的直径，对上述加工液的上述流速进行调节。
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公开(公告)号：CN1291347A
公开(公告)日：2001-04-11
申请号：CN99803006.6
申请日：1999-11-12
Applicant: 三菱电机株式会社 , 岛田理化工业株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/42
CPC classification number: H01L21/67075 , G03F7/42 , G03F7/422 , G03F7/423 , G03F7/428
Abstract: 提供了在减少材料消耗并降低通风设施成本的同时高效率且对环境无害地去除光刻胶膜的方法及其装置。去除覆在衬底表面上的光刻胶膜的方法包括:在密闭系统中,使带有光刻胶膜的衬底表面接触光刻胶膜去除溶液;在光刻胶膜去除溶液的液面附近使臭氧以气相和/或混入溶液的状态存在;改变衬底表面与溶液液面之间的相对位置以便从衬底上除去光刻胶膜或使之分解;其中,在衬底底边从位于溶液液面上方的一个位置到衬底顶边位于溶液液面下方的另一个位置之间的范围内,连续或断续地改变相对位置。用于上述方法的装置。
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公开(公告)号：CN101928646B
公开(公告)日：2012-02-22
申请号：CN201010293327.4
申请日：2005-12-27
Applicant: 三洋化成工业株式会社 , 三菱电机株式会社
CPC classification number: C11D1/722
Abstract: 本发明的目的在于提供可以容易地获得微小气泡、且使所得微小气泡长时间稳定的效果高的表面活性剂。本发明涉及微小气泡产生用表面活性剂，其特征在于，含有下述通式(1)所示的含有活性氢原子的化合物(a)的(聚)氧化烯加成物(A)，该(A)的0.02重量％水溶液在20℃下通过Ross-Miles试验测定的起泡力为50mm以下。Z-[(AO)n-H]p (1)(式中，Z为从p价的含有活性氢原子的化合物(a)中除去活性氢原子而剩下的残基；A为碳数为1～8的亚烷基；n为1～400的整数；p为1～100的整数)。
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公开(公告)号：CN101928646A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN201010293327.4
申请日：2005-12-27
Applicant: 三洋化成工业株式会社 , 三菱电机株式会社
CPC classification number: C11D1/722
Abstract: 本发明的目的在于提供可以容易地获得微小气泡、且使所得微小气泡长时间稳定的效果高的表面活性剂。本发明涉及微小气泡产生用表面活性剂，其特征在于，含有下述通式(1)所示的含有活性氢原子的化合物(a)的(聚)氧化烯加成物(A)，该(A)的0.02重量％水溶液在20℃下通过Ross-Miles试验测定的起泡力为50mm以下。Z-[(AO)n-H]p(1)(式中，Z为从p价的含有活性氢原子的化合物(a)中除去活性氢原子而剩下的残基；A为碳数为1～8的亚烷基；n为1～400的整数；p为1～100的整数)。
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公开(公告)号：CN1167106C
公开(公告)日：2004-09-15
申请号：CN99803006.6
申请日：1999-11-12
Applicant: 三菱电机株式会社 , 岛田理化工业株式会社
IPC: H01L21/027 , G03F7/42
CPC classification number: H01L21/67075 , G03F7/42 , G03F7/422 , G03F7/423 , G03F7/428
Abstract: 提供了在减少材料消耗并降低通风设施成本的同时高效率且对环境无害地去除光刻胶膜的方法及其装置。去除覆在衬底表面上的光刻胶膜的方法包括：在密闭系统中，使带有光刻胶膜的衬底表面接触光刻胶膜去除溶液；在光刻胶膜去除溶液的液面附近使臭氧以气相和/或混入溶液的状态存在；改变衬底表面与溶液液面之间的相对位置以便从衬底上除去光刻胶膜或使之分解；其中，在衬底底边从位于溶液液面上方的一个位置到衬底顶边位于溶液液面下方的另一个位置之间的范围内，连续或断续地改变相对位置。用于上述方法的装置。
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