一种表面抛磨装置及其应用

    公开(公告)号:CN108544329A

    公开(公告)日:2018-09-18

    申请号:CN201810309619.9

    申请日:2018-04-09

    Abstract: 本发明公开了一种表面抛磨装置及其应用,目的在于解决在进行高分子涂层、旋转体表面、大型易损金相表面抛磨处理时,普遍缺乏相应设备,生产成本高、效率低的问题。该装置包括立柱组件、上磨盘组件、下磨盘组件、检测模块组件、支架组件、真空吸附组件、控制系统,所述立柱组件、下磨盘组件、检测模块组件分别设置在支架组件上,立柱组件包括底座、磨制丝杠、导轨、立柱伺服电机、立柱减速机。本发明对抛磨装置进行了全新的改进,其能够实现大型、易损金属工件、塑料橡胶制品、形状复杂旋转体、有机或无机涂层的平面自动抛磨、平面半自动抛磨和圆弧表面半自动抛磨。本发明构思巧妙,设计合理,具有较高的实用价值和较好的应用前景。

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