干蚀刻方法、干蚀刻剂及其保存容器

    公开(公告)号:CN113330539A

    公开(公告)日:2021-08-31

    申请号:CN201980090097.0

    申请日:2019-12-20

    Abstract: 本公开的实施方式的干蚀刻方法的特征在于,其具有:对干蚀刻剂进行等离子化的工序;和、使用进行了等离子化的等离子气体对硅氧化物或硅氮化物进行蚀刻的工序,前述干蚀刻剂以碳数2或3的含氟直链腈化合物相对于CF3I的浓度为1体积ppm以上且1体积%以下包含CF3I和所述碳数2或3的含氟直链腈化合物。

    五氟化碘的制造方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107709229B

    公开(公告)日:2020-06-23

    申请号:CN201680037046.8

    申请日:2016-04-21

    Abstract: 本发明公开的是一种五氟化碘的制造方法,其包括如下工序:向具有包含碘的液相的五氟化碘的反应槽供给七氟化碘气体,并使碘与七氟化碘反应来制造五氟化碘。在该方法中,能够安全且稳定地实现五氟化碘的高速生成。

    已完成填充的容器的制造方法以及已完成填充的容器

    公开(公告)号:CN110832106B

    公开(公告)日:2022-04-15

    申请号:CN201880044231.9

    申请日:2018-07-24

    Abstract: 本发明的已完成填充的容器的制造方法的特征在于,包括如下工序:准备金属制的保存容器的工序,所述金属制的保存容器至少内表面由锰钢构成、且该内表面的表面粗糙度Rmax为10μm以下;氟化工序,在50℃以下,使上述保存容器的内表面与包含选自由ClF3、IF7、BrF5、F2和WF6组成的组中的至少一种第1含氟气体的气体接触;置换工序,对上述保存容器的内部用非活性气体进行置换;和,填充工序,在上述保存容器的内部填充选自由ClF3、IF7、BrF5、F2和WF6组成的组中的至少一种第2含氟气体。

    已完成填充的容器的制造方法以及已完成填充的容器

    公开(公告)号:CN110832106A

    公开(公告)日:2020-02-21

    申请号:CN201880044231.9

    申请日:2018-07-24

    Abstract: 本发明的已完成填充的容器的制造方法的特征在于,包括如下工序:准备金属制的保存容器的工序,所述金属制的保存容器至少内表面由锰钢构成、且该内表面的表面粗糙度Rmax为10μm以下;氟化工序,在50℃以下,使上述保存容器的内表面与包含选自由ClF3、IF7、BrF5、F2和WF6组成的组中的至少一种第1含氟气体的气体接触;置换工序,对上述保存容器的内部用非活性气体进行置换;和,填充工序,在上述保存容器的内部填充选自由ClF3、IF7、BrF5、F2和WF6组成的组中的至少一种第2含氟气体。

    五氟化碘的制造方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107709229A

    公开(公告)日:2018-02-16

    申请号:CN201680037046.8

    申请日:2016-04-21

    Abstract: 本发明公开的是一种五氟化碘的制造方法,其包括如下工序:向具有包含碘的液相的五氟化碘的反应槽供给七氟化碘气体,并使碘与七氟化碘反应来制造五氟化碘。在该方法中,能够安全且稳定地实现五氟化碘的高速生成。

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