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公开(公告)号:CN113696494A
公开(公告)日:2021-11-26
申请号:CN202110553769.6
申请日:2021-05-20
Applicant: 住友化学株式会社
Inventor: 三浦秀宣 , 门英昭 , 宫村勋 , 石渡和孝 , 大泷雅士 , 久米悦夫 , 仓本贤尚
IPC: B29C65/48 , B29C65/16 , G02B5/30 , B29L7/00
Abstract: 本发明提供可以减少辊的表面的宽度方向的温度不均、从而减少贴合膜的品质的问题的光学层叠体的制造方法及光学层叠体的制造装置。光学层叠体的制造方法具备:贴合工序和特定的活化处理工序。