-
-
公开(公告)号：CN110624761A
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：CN201910552884.4
申请日：2019-06-24
Applicant: 住友化学株式会社 , 富士机械工业株式会社
Abstract: 提供长条基材的液体涂布宽度的稳定性及输送性优异的液体涂布装置，其特征在于，具备：输送机构，其用于输送基材；凹版辊，其用于向基材的表面涂布液体；以及支承辊，其用于使基材与所述凹版辊接触，凹版辊的宽度比向基材进行液体涂布的液体涂布宽度宽，在基材的宽度方向上的两端部中的各端部处，在基材与凹版辊之间设置有用于一边与输送的基材的端部接触一边使该端部从凹版辊分离的基材分隔构件，基材分隔构件在基材的输送方向上在不同的位置设置有2个以上，长条基材分隔构件的与长条基材接触的长条基材接触面和向长条基材进行液体涂布的液体涂布面所成的角度为10度以下。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103842860A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201280046921.0
申请日：2012-09-25
Applicant: 住友化学株式会社 , 富士机械工业株式会社
IPC: G02B5/30 , B32B7/02 , B32B27/30 , B32B37/00 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/305 , B32B27/306 , B32B37/203 , B32B2037/1253 , B32B2307/42 , B32B2309/105 , B32B2309/14 , B32B2309/65 , B32B2310/0831 , B32B2457/202 , B32B2551/00
Abstract: 本发明的偏振板的制造方法，其特征在于，包含如下工序：对聚乙烯醇系树脂膜实施染色处理、硼酸处理及单轴拉伸处理而制作偏振膜的工序；在透明膜的单面涂布活性能量射线固化型的胶粘剂的工序；使用贴合辊夹压而将上述透明膜的涂布有上述胶粘剂的面贴合于上述偏振膜的单面或双面，以制作层叠体的工序；以及对上述层叠体照射活性能量射线，以制作偏振板的工序，其中，一边减少贴合之前的上述偏振膜与上述透明膜之间的区域的风压一边进行制作上述层叠体的工序。
-
公开(公告)号：CN110624762A
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：CN201910552885.9
申请日：2019-06-24
Applicant: 住友化学株式会社 , 富士机械工业株式会社
Abstract: 提供能抑制长条基材及长条基材分隔构件的损伤的涂布装置，其具备：输送机构，其用于将长条基材沿着长度方向输送；以及凹版辊，其用于向长条基材的表面涂布液体，凹版辊的宽度比向长条基材进行液体涂布的液体涂布宽度宽，在长条基材的宽度方向上的两端部中的各端部处，在长条基材与凹版辊之间设置有用于一边与输送的长条基材的端部接触一边使该端部从凹版辊分离的长条基材分隔构件，长条基材分隔构件的与长条基材接触的长条基材接触面的相对于环烯烃聚合物基材的静摩擦系数(μs)为0.35以下，表面粗糙度的算术平均粗糙度(Ra)为0.22μm以下，表面粗糙度的最大高度(Rz)为2.2μm以下。
-
公开(公告)号：CN110624761B
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN201910552884.4
申请日：2019-06-24
Applicant: 住友化学株式会社 , 富士机械工业株式会社
Abstract: 提供长条基材的液体涂布宽度的稳定性及输送性优异的液体涂布装置，其特征在于，具备：输送机构，其用于输送基材；凹版辊，其用于向基材的表面涂布液体；以及支承辊，其用于使基材与所述凹版辊接触，凹版辊的宽度比向基材进行液体涂布的液体涂布宽度宽，在基材的宽度方向上的两端部中的各端部处，在基材与凹版辊之间设置有用于一边与输送的基材的端部接触一边使该端部从凹版辊分离的基材分隔构件，基材分隔构件在基材的输送方向上在不同的位置设置有2个以上，长条基材分隔构件的与长条基材接触的长条基材接触面和向长条基材进行液体涂布的液体涂布面所成的角度为10度以下。
-
公开(公告)号：CN110624762B
公开(公告)日：2022-09-20
申请号：CN201910552885.9
申请日：2019-06-24
Applicant: 住友化学株式会社 , 富士机械工业株式会社
Abstract: 提供能抑制长条基材及长条基材分隔构件的损伤的涂布装置，其具备：输送机构，其用于将长条基材沿着长度方向输送；以及凹版辊，其用于向长条基材的表面涂布液体，凹版辊的宽度比向长条基材进行液体涂布的液体涂布宽度宽，在长条基材的宽度方向上的两端部中的各端部处，在长条基材与凹版辊之间设置有用于一边与输送的长条基材的端部接触一边使该端部从凹版辊分离的长条基材分隔构件，长条基材分隔构件的与长条基材接触的长条基材接触面的相对于环烯烃聚合物基材的静摩擦系数(μs)为0.35以下，表面粗糙度的算术平均粗糙度(Ra)为0.22μm以下，表面粗糙度的最大高度(Rz)为2.2μm以下。
-
公开(公告)号：CN103842860B
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：CN201280046921.0
申请日：2012-09-25
Applicant: 住友化学株式会社 , 富士机械工业株式会社
IPC: G02B5/30 , B32B7/02 , B32B27/30 , B32B37/00 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/305 , B32B27/306 , B32B37/203 , B32B2037/1253 , B32B2307/42 , B32B2309/105 , B32B2309/14 , B32B2309/65 , B32B2310/0831 , B32B2457/202 , B32B2551/00
Abstract: 本发明的偏振板的制造方法，其特征在于，包含如下工序：对聚乙烯醇系树脂膜实施染色处理、硼酸处理及单轴拉伸处理而制作偏振膜的工序；在透明膜的单面涂布活性能量射线固化型的胶粘剂的工序；使用贴合辊夹压而将上述透明膜的涂布有上述胶粘剂的面贴合于上述偏振膜的单面或双面，以制作层叠体的工序；以及对上述层叠体照射活性能量射线，以制作偏振板的工序，其中，一边减少贴合之前的上述偏振膜与上述透明膜之间的区域的风压一边进行制作上述层叠体的工序。
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.022 seconds)
