公开(公告)号：CN104233431B

公开(公告)日：2016-10-19

申请号：CN201410503409.5

申请日：2014-09-26

Applicant: 佳木斯大学

Inventor： 李慕勤 ,  魏方红 ,  郭小娟 ,  田钦文 ,  王晶彦 ,  马臣

IPC: C25D11/30

Abstract: 纯镁表面超声微弧氧化‑植酸‑丝素蛋白多级复合生物活性涂层复合材料的制备方法，涉及一种制备纯镁生物活性涂层复合材料的方法。本发明是要解决镁合金作为新的骨固定材料和植入材料时作为一种异体物质植入人体内，在体内耐蚀性差，降解速率过快的技术问题。本发明方法按以下步骤进行：一、纯镁试样表面预处理；二、配置微弧氧化电解液；三、超声微弧氧化处理；四、浸泡加热后处理。本发明采用微弧氧化技术来处理纯镁，同时考虑微弧氧化电解液的性质，有效提高涂层和基体的结合强度，微弧氧化后处理又能有效地堵住微弧氧化的部分孔隙，并提高了耐蚀性能，获得具有高效生物活性的镁生物活性涂层复合材料。本发明应用于制备骨固定材料和植入材料。

公开(公告)号：CN104404591A

公开(公告)日：2015-03-11

申请号：CN201410705993.2

申请日：2014-11-27

Applicant: 佳木斯大学

Inventor： 李慕勤 ,  田钦文 ,  刘忠洲 ,  马天钰 ,  毕研军 ,  渠伟峰

IPC: C25D11/02 ,  C25D17/00

CPC classification number: C25D11/005 ,  C25D11/02

Abstract: 基于分离式补偿阴极提高膜层厚度均匀性和能量利用率的微弧氧化装置，涉及工件表面微弧氧化领域。解决了现有微弧氧化技术中存在工件氧化膜层厚度不均匀以及电解液等效阻抗导致的能量利用率低的问题。上阴极架为“U”型结构，且架设在微弧槽上，上阴极架的底板上开设有阵列通孔，绝缘架通过螺栓固定在上阴极架的上表面，阳极杆为长方体长杆，阳极杆的两端通过螺栓固定在绝缘架上，工件挂杆的一端位于微弧槽中，且设有弯钩，工件挂杆的另一端穿过上阴极架的底板上的通孔，并通过阳极夹固定在阳极杆上，补偿阴极挂杆的一端设有弯钩，补偿阴极挂杆通过该弯钩架在上阴极架的底板上，补偿阴极板与补偿阴极挂杆的另一端固定连接。本发明适用于微弧氧化。

公开(公告)号：CN104928678A

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201510249551.6

申请日：2015-05-15

Applicant: 佳木斯大学

Inventor： 田钦文 ,  李慕勤 ,  吴明忠 ,  郭晓娟 ,  仇志伟 ,  王楠 ,  苑广祖 ,  郭三红 ,  沙尔望

IPC: C23C28/04 ,  C23C16/30 ,  C25D11/26

Abstract: 一种含钛试件表面制备微纳结构钛酸镁活性功能涂层的方法，它涉及一种钛试件表面制备功能涂层的方法本发明的目的是要解决现有钛合金的弹性模量大，导致钛合金微弧氧化涂层容易造成接缝骨骼磨损和损伤的问题。方法：一、首先对含钛试件进行前处理，得到前处理后含钛试件；二、进行酸洗，得到酸洗后含钛试件；三、进行微弧氧化处理，得到带微弧氧化涂层的含钛试件；四、对带微弧氧化涂层的含钛试件进行多弧离子镀，即完成含钛试件表面制备微纳结构钛酸镁活性功能涂层。本发明主要用于制备附着微纳结构钛酸镁活性功能涂层的含钛试件。

公开(公告)号：CN104928678B

公开(公告)日：2019-06-14

申请号：CN201510249551.6

申请日：2015-05-15

Applicant: 佳木斯大学

Inventor： 田钦文 ,  李慕勤 ,  吴明忠 ,  郭晓娟 ,  仇志伟 ,  王楠 ,  苑广祖 ,  郭三红 ,  沙尔望

IPC: C23C28/04 ,  C23C16/30 ,  C25D11/26

Abstract: 一种含钛试件表面制备微纳结构钛酸镁活性功能涂层的方法，它涉及一种钛试件表面制备功能涂层的方法本发明的目的是要解决现有钛合金的弹性模量大，导致钛合金微弧氧化涂层容易造成接缝骨骼磨损和损伤的问题。方法：一、首先对含钛试件进行前处理，得到前处理后含钛试件；二、进行酸洗，得到酸洗后含钛试件；三、进行微弧氧化处理，得到带微弧氧化涂层的含钛试件；四、对带微弧氧化涂层的含钛试件进行多弧离子镀，即完成含钛试件表面制备微纳结构钛酸镁活性功能涂层。本发明主要用于制备附着微纳结构钛酸镁活性功能涂层的含钛试件。

公开(公告)号：CN104404591B

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201410705993.2

申请日：2014-11-27

Applicant: 佳木斯大学

Inventor： 李慕勤 ,  田钦文 ,  刘忠洲 ,  马天钰 ,  毕研军 ,  渠伟峰

IPC: C25D11/02 ,  C25D17/00

Abstract: 基于分离式补偿阴极提高膜层厚度均匀性和能量利用率的微弧氧化装置，涉及工件表面微弧氧化领域。解决了现有微弧氧化技术中存在工件氧化膜层厚度不均匀以及电解液等效阻抗导致的能量利用率低的问题。上阴极架为“U”型结构，且架设在微弧槽上，上阴极架的底板上开设有阵列通孔，绝缘架通过螺栓固定在上阴极架的上表面，阳极杆为长方体长杆，阳极杆的两端通过螺栓固定在绝缘架上，工件挂杆的一端位于微弧槽中，且设有弯钩，工件挂杆的另一端穿过上阴极架的底板上的通孔，并通过阳极夹固定在阳极杆上，补偿阴极挂杆的一端设有弯钩，补偿阴极挂杆通过该弯钩架在上阴极架的底板上，补偿阴极板与补偿阴极挂杆的另一端固定连接。本发明适用于微弧氧化。