公开(公告)号：CN104404591B

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201410705993.2

申请日：2014-11-27

Applicant: 佳木斯大学

Inventor： 李慕勤 ,  田钦文 ,  刘忠洲 ,  马天钰 ,  毕研军 ,  渠伟峰

IPC: C25D11/02 ,  C25D17/00

Abstract: 基于分离式补偿阴极提高膜层厚度均匀性和能量利用率的微弧氧化装置，涉及工件表面微弧氧化领域。解决了现有微弧氧化技术中存在工件氧化膜层厚度不均匀以及电解液等效阻抗导致的能量利用率低的问题。上阴极架为“U”型结构，且架设在微弧槽上，上阴极架的底板上开设有阵列通孔，绝缘架通过螺栓固定在上阴极架的上表面，阳极杆为长方体长杆，阳极杆的两端通过螺栓固定在绝缘架上，工件挂杆的一端位于微弧槽中，且设有弯钩，工件挂杆的另一端穿过上阴极架的底板上的通孔，并通过阳极夹固定在阳极杆上，补偿阴极挂杆的一端设有弯钩，补偿阴极挂杆通过该弯钩架在上阴极架的底板上，补偿阴极板与补偿阴极挂杆的另一端固定连接。本发明适用于微弧氧化。

公开(公告)号：CN104404591A

公开(公告)日：2015-03-11

申请号：CN201410705993.2

申请日：2014-11-27

Applicant: 佳木斯大学

Inventor： 李慕勤 ,  田钦文 ,  刘忠洲 ,  马天钰 ,  毕研军 ,  渠伟峰

IPC: C25D11/02 ,  C25D17/00

CPC classification number: C25D11/005 ,  C25D11/02

Abstract: 基于分离式补偿阴极提高膜层厚度均匀性和能量利用率的微弧氧化装置，涉及工件表面微弧氧化领域。解决了现有微弧氧化技术中存在工件氧化膜层厚度不均匀以及电解液等效阻抗导致的能量利用率低的问题。上阴极架为“U”型结构，且架设在微弧槽上，上阴极架的底板上开设有阵列通孔，绝缘架通过螺栓固定在上阴极架的上表面，阳极杆为长方体长杆，阳极杆的两端通过螺栓固定在绝缘架上，工件挂杆的一端位于微弧槽中，且设有弯钩，工件挂杆的另一端穿过上阴极架的底板上的通孔，并通过阳极夹固定在阳极杆上，补偿阴极挂杆的一端设有弯钩，补偿阴极挂杆通过该弯钩架在上阴极架的底板上，补偿阴极板与补偿阴极挂杆的另一端固定连接。本发明适用于微弧氧化。