射频阻抗匹配方法及系统、半导体工艺设备

    公开(公告)号:CN115376969A

    公开(公告)日:2022-11-22

    申请号:CN202211073347.X

    申请日:2022-09-02

    Abstract: 本申请实施例提供了一种射频阻抗匹配方法及系统、半导体工艺设备。该射频阻抗匹配方法用于通过射频电源及匹配器实现半导体工艺设备的工艺腔室起辉,其包括:获取工艺配方中的匹配参数及初始扫频参数;控制匹配器中电容器组件的参数为匹配参数;控制射频电源以初始扫频参数开始自动扫频,用于使射频电源的阻抗与匹配器及工艺腔室的阻抗相等,以使工艺腔室起辉。本申请实施例实现了射频电源能从最优初始扫频参数的调用以实现工艺腔室的快速起辉及匹配,从而不仅能大幅提高工艺腔室的起辉效率,而且还能避免起辉匹配失败的情况发生,进而确保起辉及匹配的可重复性和稳定性,以大幅提高工艺结果的一致性。

    射频阻抗匹配方法及系统、半导体工艺设备

    公开(公告)号:CN115376969B

    公开(公告)日:2025-04-08

    申请号:CN202211073347.X

    申请日:2022-09-02

    Abstract: 本申请实施例提供了一种射频阻抗匹配方法及系统、半导体工艺设备。该射频阻抗匹配方法用于通过射频电源及匹配器实现半导体工艺设备的工艺腔室起辉,其包括:获取工艺配方中的匹配参数及初始扫频参数;控制匹配器中电容器组件的参数为匹配参数;控制射频电源以初始扫频参数开始自动扫频,用于使射频电源的阻抗与匹配器及工艺腔室的阻抗相等,以使工艺腔室起辉。本申请实施例实现了射频电源能从最优初始扫频参数的调用以实现工艺腔室的快速起辉及匹配,从而不仅能大幅提高工艺腔室的起辉效率,而且还能避免起辉匹配失败的情况发生,进而确保起辉及匹配的可重复性和稳定性,以大幅提高工艺结果的一致性。

    射频信号检测装置及半导体工艺设备

    公开(公告)号:CN220795348U

    公开(公告)日:2024-04-16

    申请号:CN202322051887.4

    申请日:2023-08-01

    Inventor: 王威威 卫晶 韦刚

    Abstract: 本实用新型提供一种射频信号检测装置以及半导体工艺设备;其包括:采集模块,其输入端与半导体工艺设备的静电卡盘连接,用于采集射频信号,射频信号包括不同频率的第一射频信号和第二射频信号;分频模块,包括并联的第一滤波电路和第二滤波电路,第一滤波电路和第二滤波电路的输入端均与采集模块的输出端连接;第一滤波电路用于过滤掉第二射频信号,并使第一射频信号通过;第二滤波电路用于过滤掉第一射频信号,并使第二射频信号通过;分析模块,分别与第一滤波电路和第二滤波电路的输出端连接,用于分析第一射频信号和第二射频信号,并获取对应的电压值,从而能够实现对第一射频信号和第二射频信号的电压值进行分别检测。

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