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公开(公告)号:CN102916340A
公开(公告)日:2013-02-06
申请号:CN201210370711.9
申请日:2012-09-29
Applicant: 南京大学
IPC: H01S5/12
Abstract: 本发明提出了一种基于相移电控制的取样光栅半导体激光器,所述的DFB半导体激光器结构由第一与第二两个取样光栅区和一个相移区组成;两边取样光栅区中的光栅是取样布拉格光栅(SBG),中间为相移区,取样周期从1微米到数十微米量级;两个取样光栅区的电极连接在一起,但与相移区的电极相隔离;取样光栅区和相移区的有效折射率与长度,分别用nSBG和nP、LSBG和LP来表示;只要改变取样周期P的大小,就能实现对激光器激射波长的初步控制;构成相移电控制的取样布拉格光栅分布反馈式(DFB)半导体激光器。
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公开(公告)号:CN102403651A
公开(公告)日:2012-04-04
申请号:CN201110359884.6
申请日:2011-11-15
Applicant: 南京大学
IPC: H01S5/0625 , H01S5/12 , H01S5/223
Abstract: 多波长分布反馈式半导体激光器,双波长半导体激光器器件,从下至上依次是:电极、n型InP衬底材料、外延n型InP缓冲层、非掺杂品格匹配InGaAsP下限制层、应变InGaAsP多量子阱有源层1、非掺杂品格匹配InGaAsP上限制层;取样光栅1;取样光栅1上部的结构依次是,p型重掺杂的InP层和n型重掺杂的InP层形成反向隧道结层,重复非掺杂品格匹配InGaAsP下限制层2、应变InGaAsP多量子阱有源层2、重掺杂的品格匹配InGaAsP上限制层2、λ/4取样光栅2、第三次外延生长p型InP层和p型InGaAs的欧姆接触层和p电极;利用这种双波长激光器产生激光的拍频信号,可制作波长可调的微波信号源。
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公开(公告)号:CN102916340B
公开(公告)日:2015-01-21
申请号:CN201210370711.9
申请日:2012-09-29
Applicant: 南京大学
IPC: H01S5/12
Abstract: 本发明提出了一种基于相移电控制的取样光栅半导体激光器,所述的DFB半导体激光器结构由第一与第二两个取样光栅区和一个相移区组成;两边取样光栅区中的光栅是取样布拉格光栅(SBG),中间为相移区,取样周期从1微米到数十微米量级;两个取样光栅区的电极连接在一起,但与相移区的电极相隔离;取样光栅区和相移区的有效折射率与长度,分别用nSBG和nP、LSBG和LP来表示;只要改变取样周期P的大小,就能实现对激光器激射波长的初步控制;构成相移电控制的取样布拉格光栅分布反馈式(DFB)半导体激光器。
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公开(公告)号:CN101924326B
公开(公告)日:2013-03-13
申请号:CN201010280999.1
申请日:2010-09-14
Applicant: 南京大学
Abstract: 基于特殊等效相移的DFB半导体激光器,DFB半导体激光器结构由长度相同、取样周期相同的左右两段取样布拉格光栅组成,取样周期从1微米到数十微米量级,但是左右两段取样布拉格光栅的占空比不同,前一部分的占空比为γ,后一部分的占空比则为(1-γ),γ值的大小在0.3到0.5之间;0级子光栅中折射率调制是一个常数项。在结构中,有个等效λ/4波长相移被引入到除0级外所有影子光栅中;在种子光栅周期保持不变的情况下,只要改变取样周期的大小,就能在其±1级影子光栅中获得不同的激射波长。能较大幅度地提高DFB半导体激光器0级激射所需的阈值电流,从而抑制0级信道可能的激射模式,增加激光器主模与0级间的阈值增益差。
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公开(公告)号:CN101924326A
公开(公告)日:2010-12-22
申请号:CN201010280999.1
申请日:2010-09-14
Applicant: 南京大学
Abstract: 基于特殊等效相移的DFB半导体激光器,DFB半导体激光器结构由长度相同、取样周期相同的左右两段取样布拉格光栅组成,取样周期从1微米到数十微米量级,但是左右两段取样布拉格光栅的占空比不同,前一部分的占空比为γ,后一部分的占空比则为(1-γ),γ值的大小在0.3到0.5之间;0级子光栅中折射率调制是一个常数项。在结构中,有个等效λ/4波长相移被引入到除0级外所有影子光栅中;在种子光栅周期保持不变的情况下,只要改变取样周期的大小,就能在其±1级影子光栅中获得不同的激射波长。能较大幅度地提高DFB半导体激光器0级激射所需的阈值电流,从而抑制0级信道可能的激射模式,增加激光器主模与0级间的阈值增益差。
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