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公开(公告)号：CN102172866A
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN201110040942.9
申请日：2011-02-18
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B13/00
Abstract: 一种局部压力可控的平面光学元件抛光装置，涉及一种光学元件抛光装置。设有连接轴、底座、密封筒、磁流变装置盘、磁流变液、橡胶薄膜、嵌入式控制装置以及夹爪；连接轴一端固定在底座上表面，底座下表面设有夹爪固定槽，密封筒固定在底座下表面，磁流变装置盘、磁流变液和橡胶薄膜设在密封筒内，所述区域磁场调节装置固定在磁流变装置盘内，所述磁流变装置盘底面中心设有小孔，所述小孔与底座中心的导线通孔连接，区域磁场调节装置内连接线圈的导线及微型电机动力线穿过小孔和底座上的导线通孔与嵌入式控制装置连接，磁流变装置盘与密封筒底的橡胶薄膜密封一层磁流变液。可实现工件表面面形误差迅速收敛。
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公开(公告)号：CN102049716A
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN201010227864.9
申请日：2010-07-13
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B13/00
Abstract: 一种用于大口径平面光学元件抛光的可调式压力装置，涉及一种压力装置。提供一种用于调节工件的抛光面在加工时所受的压强，不仅可改善工件的抛光质量和控制材料去除率，而且结构简单且实用的用于大口径平面光学元件抛光的可调式压力装置。设有质量块和夹具平板。质量块作为压力源；夹具平板设有支杆、底座和吸附基模，支杆用于装载质量块，底座下部连接吸附基模，其中吸附基模设有基体和薄膜，底座通过吸附基模的薄膜吸附在工件表面，使得整个装置固定在工件的相应部位。
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公开(公告)号：CN101937208A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN201010243101.3
申请日：2010-07-30
Applicant: 厦门大学
IPC: G05B19/4063
Abstract: 一种双轴动平衡方法及其无线监控装置，涉及一种非球面磨削技术。先对砂轮和工件进行单面平衡，再进行整体平衡，完成砂轮、工件双轴动平衡。无线监控装置设传感器、现场信号采集设备和监控台。传感器设2个振动传感器和2个光电传感器；现场信号采集设备设单片机系统和单片机端无线模块单元；监控台设PC机和PC机端无线模块单元。该装置对加工过程进行适时监测，采集加工过程中的振动数据，计算出加工后的表面，并将振动数据通过无线方式发送给PC机，PC机与数控机床的伺服控制单元相连，由PC机控制加工中的进给速度和振动相位等参数调整加工结果，使加工精度满足预定要求，实现砂轮、工件双轴动平衡。
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公开(公告)号：CN101556476A
公开(公告)日：2009-10-14
申请号：CN200910111811.8
申请日：2009-05-19
Applicant: 厦门大学
IPC: G05B19/418 , H04B7/00
CPC classification number: Y02P90/02
Abstract: 一种用于规模化机械加工的无线网络检测系统，涉及一种无线网络检测系统。提供一种用于规模化机械加工的无线网络检测系统。设有网络协调器装置、监控节点装置、现场监控电脑和远程监测电脑。监控节点装置与传感器连接并设在机床上，监控节点装置通过串口与运动控制器连接，监控节点装置与网络协调器装置组成一个近场无线网络。网络协调器装置是近场无线网络中心，负责维护、管理无线网络的正常通信，并且通过串口与现场监控电脑进行通信，还可以通过GPRS装置向远程监测电脑发送监测数据。远程数据发送的过程是GPRS装置将数据发送给移动通信网络基站，基站将数据发送到Internet的远程监测电脑上。
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公开(公告)号：CN102049716B
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN201010227864.9
申请日：2010-07-13
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B13/00
Abstract: 一种用于大口径平面光学元件抛光的可调式压力装置，涉及一种压力装置。提供一种用于调节工件的抛光面在加工时所受的压强，不仅可改善工件的抛光质量和控制材料去除率，而且结构简单且实用的用于大口径平面光学元件抛光的可调式压力装置。设有质量块和夹具平板。质量块作为压力源；夹具平板设有支杆、底座和吸附基模，支杆用于装载质量块，底座下部连接吸附基模，其中吸附基模设有基体和薄膜，底座通过吸附基模的薄膜吸附在工件表面，使得整个装置固定在工件的相应部位。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102284890A
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN201110288028.6
申请日：2011-09-26
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 面形自适应回转轴对称光学元件抛光装置，涉及一种光学元件抛光装置。设有连接轴、底盘、永磁体、磁流变液槽、工作台、区域磁场调节装置以及嵌入式控制装置；所述连接轴一端通过键连接固定在底盘上表面，连接轴另一端与机床抛光旋转轴连接；底盘下表面设有工件固定台、永磁体座以及导轨，工件倒置固定在工件固定台上，永磁体座固定在导轨上，所述永磁体固定在永磁体座上；载有磁流变液的磁流变液槽置于工作台上方，抛光时，将工件浸入磁流变液内；所述区域磁场调节装置固定在工作台内，区域磁场调节装置布满工作台内部；所述工作台底面中心设有导线通孔，区域磁场调节装置内连接线圈的导线穿过导线通孔与嵌入式控制装置连接。
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公开(公告)号：CN101963483A
公开(公告)日：2011-02-02
申请号：CN201010515089.7
申请日：2010-10-21
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种用于光学元件检测的三轴旋转工作平台，涉及一种光学元件检测工具。提供一种可以三轴旋转，配合三坐标测量机实现对光学元件形面的精确测量的用于光学元件检测的三轴旋转工作平台。设有工作台、底座、工作台倾角调节机构和工作台紧固机构。工作台下表面安装在底座上的凹槽上；底座凹槽内设有油槽；工作台倾角调节机构设有6个定位螺栓，工作台紧固机构设有连杆、连杆弹簧、横向紧固螺杆、纵向紧固螺杆、紧固楔块和挡板；连杆穿过工作台中心孔，连杆下端通过弹簧连接在底座上，连杆上端设有紧固楔块；两个横向紧固螺杆设于紧固楔块侧端；纵向紧固螺杆隔着挡板旋转进入设于紧固楔块顶部的螺孔内，通过旋转纵向紧固螺杆可以锁紧工作台。
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公开(公告)号：CN102172866B
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201110040942.9
申请日：2011-02-18
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B13/00
Abstract: 一种局部压力可控的平面光学元件抛光装置，涉及一种光学元件抛光装置。设有连接轴、底座、密封筒、磁流变装置盘、磁流变液、橡胶薄膜、嵌入式控制装置以及夹爪；连接轴一端固定在底座上表面，底座下表面设有夹爪固定槽，密封筒固定在底座下表面，磁流变装置盘、磁流变液和橡胶薄膜设在密封筒内，所述区域磁场调节装置固定在磁流变装置盘内，所述磁流变装置盘底面中心设有小孔，所述小孔与底座中心的导线通孔连接，区域磁场调节装置内连接线圈的导线及微型电机动力线穿过小孔和底座上的导线通孔与嵌入式控制装置连接，磁流变装置盘与密封筒底的橡胶薄膜密封一层磁流变液。可实现工件表面面形误差迅速收敛。
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公开(公告)号：CN101963483B
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201010515089.7
申请日：2010-10-21
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种用于光学元件检测的三轴旋转工作平台，涉及一种光学元件检测工具。提供一种可以三轴旋转，配合三坐标测量机实现对光学元件形面的精确测量的用于光学元件检测的三轴旋转工作平台。设有工作台、底座、工作台倾角调节机构和工作台紧固机构。工作台下表面安装在底座上的凹槽上；底座凹槽内设有油槽；工作台倾角调节机构设有6个定位螺栓，工作台紧固机构设有连杆、连杆弹簧、横向紧固螺杆、纵向紧固螺杆、紧固楔块和挡板；连杆穿过工作台中心孔，连杆下端通过弹簧连接在底座上，连杆上端设有紧固楔块；两个横向紧固螺杆设于紧固楔块侧端；纵向紧固螺杆隔着挡板旋转进入设于紧固楔块顶部的螺孔内，通过旋转纵向紧固螺杆可以锁紧工作台。
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公开(公告)号：CN102172867B
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN201110038719.0
申请日：2011-02-16
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B13/005
Abstract: 参数可调式大口径平面光学元件抛光夹具装置，涉及一种抛光夹具装置。设有质量块、夹具平板、上下液压活塞装置、液压输油与回油装置、压力传感器、伺服放大器和工控机；质量块套入夹具平板上表面中心轴，上下液压活塞装置通过隔离板隔开，上下液压活塞装置通过吸附基膜分别吸附在夹具平板下表面和工件上表面，上下液压活塞装置均设液压缸、液压油、活塞、推杆、密封圈、弹簧、输油孔和回油孔，推杆下端通过弹簧与活塞相连，推杆上端连结吸附基模的基体，输油孔和回油孔与液压输油与回油装置的输油孔和回油孔连接，传感器埋入抛光垫内，传感器压力信号输出端经伺服放大器后输入到数据采集卡，数据采集卡安装在工控机上。结构简单且实用。
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