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公开(公告)号:CN102172866B
公开(公告)日:2012-09-12
申请号:CN201110040942.9
申请日:2011-02-18
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B13/00
Abstract: 一种局部压力可控的平面光学元件抛光装置,涉及一种光学元件抛光装置。设有连接轴、底座、密封筒、磁流变装置盘、磁流变液、橡胶薄膜、嵌入式控制装置以及夹爪;连接轴一端固定在底座上表面,底座下表面设有夹爪固定槽,密封筒固定在底座下表面,磁流变装置盘、磁流变液和橡胶薄膜设在密封筒内,所述区域磁场调节装置固定在磁流变装置盘内,所述磁流变装置盘底面中心设有小孔,所述小孔与底座中心的导线通孔连接,区域磁场调节装置内连接线圈的导线及微型电机动力线穿过小孔和底座上的导线通孔与嵌入式控制装置连接,磁流变装置盘与密封筒底的橡胶薄膜密封一层磁流变液。可实现工件表面面形误差迅速收敛。
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公开(公告)号:CN101963483B
公开(公告)日:2012-01-11
申请号:CN201010515089.7
申请日:2010-10-21
Applicant: 厦门大学
Abstract: 一种用于光学元件检测的三轴旋转工作平台,涉及一种光学元件检测工具。提供一种可以三轴旋转,配合三坐标测量机实现对光学元件形面的精确测量的用于光学元件检测的三轴旋转工作平台。设有工作台、底座、工作台倾角调节机构和工作台紧固机构。工作台下表面安装在底座上的凹槽上;底座凹槽内设有油槽;工作台倾角调节机构设有6个定位螺栓,工作台紧固机构设有连杆、连杆弹簧、横向紧固螺杆、纵向紧固螺杆、紧固楔块和挡板;连杆穿过工作台中心孔,连杆下端通过弹簧连接在底座上,连杆上端设有紧固楔块;两个横向紧固螺杆设于紧固楔块侧端;纵向紧固螺杆隔着挡板旋转进入设于紧固楔块顶部的螺孔内,通过旋转纵向紧固螺杆可以锁紧工作台。
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公开(公告)号:CN101837571A
公开(公告)日:2010-09-22
申请号:CN201010185128.1
申请日:2010-05-21
Applicant: 厦门大学
IPC: B24D13/00
Abstract: 三维可控磁流变抛光轮,涉及一种抛光工具。提供一种可实现对各种不同的光学元件的超精密抛光的三维可控磁流变抛光轮。设有驱动电机、电机齿轮、环形齿轮、抛光盘、轴承、磁芯、线圈、套筒和支承轴。驱动电机固定在支承轴上,驱动电机的引线通过设于支承轴上的导线通孔引出外接电源,电机齿轮固定在驱动电机上,环形齿轮与磁芯连接并套在支承轴上绕支承轴转动,驱动电机带动环形齿轮转动,电机齿轮与环形齿轮啮合使得磁芯转动,各个磁芯在支承轴上沿轴线分布,各个磁芯之间通过套筒定位,抛光盘为顶部薄,两侧厚的立式中空壳体结构,抛光盘通过轴承与支承轴联接,线圈置于磁芯内。
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公开(公告)号:CN102172866A
公开(公告)日:2011-09-07
申请号:CN201110040942.9
申请日:2011-02-18
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B13/00
Abstract: 一种局部压力可控的平面光学元件抛光装置,涉及一种光学元件抛光装置。设有连接轴、底座、密封筒、磁流变装置盘、磁流变液、橡胶薄膜、嵌入式控制装置以及夹爪;连接轴一端固定在底座上表面,底座下表面设有夹爪固定槽,密封筒固定在底座下表面,磁流变装置盘、磁流变液和橡胶薄膜设在密封筒内,所述区域磁场调节装置固定在磁流变装置盘内,所述磁流变装置盘底面中心设有小孔,所述小孔与底座中心的导线通孔连接,区域磁场调节装置内连接线圈的导线及微型电机动力线穿过小孔和底座上的导线通孔与嵌入式控制装置连接,磁流变装置盘与密封筒底的橡胶薄膜密封一层磁流变液。可实现工件表面面形误差迅速收敛。
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公开(公告)号:CN102049716A
公开(公告)日:2011-05-11
申请号:CN201010227864.9
申请日:2010-07-13
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B13/00
Abstract: 一种用于大口径平面光学元件抛光的可调式压力装置,涉及一种压力装置。提供一种用于调节工件的抛光面在加工时所受的压强,不仅可改善工件的抛光质量和控制材料去除率,而且结构简单且实用的用于大口径平面光学元件抛光的可调式压力装置。设有质量块和夹具平板。质量块作为压力源;夹具平板设有支杆、底座和吸附基模,支杆用于装载质量块,底座下部连接吸附基模,其中吸附基模设有基体和薄膜,底座通过吸附基模的薄膜吸附在工件表面,使得整个装置固定在工件的相应部位。
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公开(公告)号:CN101972952A
公开(公告)日:2011-02-16
申请号:CN201010227892.0
申请日:2010-07-13
Applicant: 厦门大学
Abstract: 轴对称可变磁场抛光轮,涉及一种抛光工具。提供一种结构简单且实用,基于磁流变抛光技术,可实现非球面光学元件超精密抛光的轴对称可变磁场抛光轮。设有抛光盘、磁芯、线圈、转动盘、导座、丝杆组和电机。抛光盘固定在主轴上。抛光盘为空壳体结构。第1电机固定在导座上,第1电机驱动丝杆;第2电机控制转动盘;导座置于转动盘上,转动盘固定在抛光盘空壳体内壁;控制抛光盘内所有线圈的磁场强弱和磁场方向;每片抛光区域的磁芯由2块磁体正对放置组成,2块磁体之间留有空隙,2块磁体通过丝杆调整2块磁体之间空隙;磁芯内沿轴向设有至少4个线圈,至少4个线圈在抛光盘每片抛光区域内排列成矩形。
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公开(公告)号:CN102501177B
公开(公告)日:2014-03-26
申请号:CN201110346776.5
申请日:2011-11-04
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B55/00
Abstract: 一种精密数控磨床平衡装置及其平衡方法,涉及一种数控磨床。平衡装置设有位移传感器、数据采集仪、工控机、比例伺服阀控制器、比例伺服阀、液压缸、支撑板、拉杆和磨头拉环。建立平衡磨头偏移量的液压缸输出力和主轴向位移的关系;加工时实时平衡,当主轴位移时,安装在立柱上的位移传感器测出移动的距离,位移传感器通过数据采集仪将位移的电信号传给工控机,工控机的软件根据之前平衡磨头偏移量的液压缸输出力与主轴位移的关系曲线,输出压力控制信号给比例伺服阀控制器,比例伺服阀控制器接到压力控制信号后对液压缸发出指令,液压缸输出与主轴位移相对应的力,从而使磨头达到平衡状态。可提高超精密磨床加工精度和延长寿命。
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公开(公告)号:CN101837571B
公开(公告)日:2011-09-28
申请号:CN201010185128.1
申请日:2010-05-21
Applicant: 厦门大学
IPC: B24D13/00
Abstract: 三维可控磁流变抛光轮,涉及一种抛光工具。提供一种可实现对各种不同的光学元件的超精密抛光的三维可控磁流变抛光轮。设有驱动电机、电机齿轮、环形齿轮、抛光盘、轴承、磁芯、线圈、套筒和支承轴。驱动电机固定在支承轴上,驱动电机的引线通过设于支承轴上的导线通孔引出外接电源,电机齿轮固定在驱动电机上,环形齿轮与磁芯连接并套在支承轴上绕支承轴转动,驱动电机带动环形齿轮转动,电机齿轮与环形齿轮啮合使得磁芯转动,各个磁芯在支承轴上沿轴线分布,各个磁芯之间通过套筒定位,抛光盘为顶部薄,两侧厚的立式中空壳体结构,抛光盘通过轴承与支承轴联接,线圈置于磁芯内。
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公开(公告)号:CN102501177A
公开(公告)日:2012-06-20
申请号:CN201110346776.5
申请日:2011-11-04
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B55/00
Abstract: 一种精密数控磨床平衡装置及其平衡方法,涉及一种数控磨床。平衡装置设有位移传感器、数据采集仪、工控机、比例伺服阀控制器、比例伺服阀、液压缸、支撑板、拉杆和磨头拉环。建立平衡磨头偏移量的液压缸输出力和主轴向位移的关系;加工时实时平衡,当主轴位移时,安装在立柱上的位移传感器测出移动的距离,位移传感器通过数据采集仪将位移的电信号传给工控机,工控机的软件根据之前平衡磨头偏移量的液压缸输出力与主轴位移的关系曲线,输出压力控制信号给比例伺服阀控制器,比例伺服阀控制器接到压力控制信号后对液压缸发出指令,液压缸输出与主轴位移相对应的力,从而使磨头达到平衡状态。可提高超精密磨床加工精度和延长寿命。
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