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公开(公告)号:CN119469451A
公开(公告)日:2025-02-18
申请号:CN202411628664.2
申请日:2024-11-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本发明涉及一种薄膜温度传感器及其制备方法和温度场测量方法,属于温度传感器技术领域,所述薄膜温度传感器具有半导体特性;所述薄膜温度传感器包括SiBCN陶瓷和填料。本发明提供的薄膜温度传感器致密度高、表面质量好,与基体结合能力强,不易脱落,在0~800℃范围内均具有明显半导体特性,可满足高温工况下不同材质的平面、曲面、异形结构的工件表面的温度场测量需求。