公开(公告)号：CN1175124C

公开(公告)日：2004-11-10

申请号：CN02133101.4

申请日：2002-09-30

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 汤宝寅 ,  王浪平 ,  王小峰 ,  孙继武 ,  王松雁

IPC: C23C14/48

Abstract: 滚珠全方位离子注入与沉积表面强化处理方法及装置，它涉及一种对圆球体和复杂形状的机械零件进行均匀强化处理的方法和装置。该方法运用金属等离子体浸没离子注入与沉积技术，并使工件在10～60KV的高电位下匀速自转。该装置包含有多功能等离子体浸没离子注入装置、强流阴极弧金属等离子体源B、以及高电压慢速旋转靶台。高电压慢速旋转靶台的工件旋转装置(1)由一固定不动的固定盘(1-1)和绕垂直的中心轴线转动的动盘(1-2)组成。在固定盘(1-1)上开有与被处理工件K相吻合的通孔(1-3)，动盘(1-2)的上面与被处理工件K相接触。该方法和设备解决了现有技术和设备难以对球形工件表面进行均匀强化处理的问题。

公开(公告)号：CN1414135A

公开(公告)日：2003-04-30

申请号：CN02133101.4

申请日：2002-09-30

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 汤宝寅 ,  王浪平 ,  王小峰 ,  孙继武 ,  王松雁

IPC: C23C14/48

Abstract: 滚珠全方位离子注入与沉积表面强化处理方法及装置，它涉及一种对圆球体和复杂形状的机械零件进行均匀强化处理的方法和装置。该方法运用金属等离子体浸没离子注入与沉积技术，并使工件在10～60KV的高电位下匀速自转。该装置包含有多功能等离子体浸没离子注入装置、强流阴极弧金属等离子体源B、以及高电压慢速旋转靶台。高电压慢速旋转靶台的工件旋转装置(1)由一固定不动的固定盘(1－1)和绕垂直的中心轴线转动的动盘(1－2)组成。在固定盘(1－1)上开有与被处理工件K相吻合的通孔(1－3)，动盘(1－2)的上面与被处理工件K相接触。该方法和设备解决了现有技术和设备难以对球形工件表面进行均匀强化处理的问题。

公开(公告)号：CN2557533Y

公开(公告)日：2003-06-25

申请号：CN02275567.5

申请日：2002-09-30

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 汤宝寅 ,  王浪平 ,  王小峰 ,  孙继武 ,  王松雁

IPC: C23C14/48

Abstract: 滚珠全方位离子注入与沉积表面强化处理装置，它涉及一种对圆球体和复杂形状的机械零件进行均匀强化处理装置。该装置包含有多功能等离子体浸没离子注入装置、强流阴极弧金属等离子体源B、以及高电压慢速旋转靶台。高电压慢速旋转靶台的工件旋转装置(1)由一固定不动的固定盘(1－1)和绕垂直的中心轴线转动的动盘(1－2)组成。在固定盘(1－1)上开有用于放置被处理工件K的通孔(1－3)，通孔(1－3)的内侧面与被处理的工件K的外表面相吻合，动盘(1－2)的上面与被处理工件K相接触，动盘(1－2)经不锈钢管(8)和高压绝缘瓷杆(5)与电机及减速器(6)相连接。该设备解决了现有设备难以对球形工件表面进行均匀强化处理的问题。