公开(公告)号：CN101855593B

公开(公告)日：2011-12-21

申请号：CN200880115186.8

申请日：2008-11-06

Applicant: 芝浦机械电子装置股份有限公司 ,  夏普株式会社

Inventor： 原晓 ,  山崎贵弘 ,  重山昭宏 ,  铃木英幸 ,  神户诚 ,  盐崎唯史

IPC: G02F1/1337 ,  B05C5/00 ,  B05C13/02 ,  B05D1/26

CPC classification number: G02F1/1341 ,  G02F1/1303 ,  G02F2001/13415

Abstract: 在液滴涂敷装置(2)中，具有：涂敷头(2d)，将涂敷液作为多个液滴向涂敷对象物(K1、K2)排出；移动机构(2c)，使涂敷对象物(K1、K2)与涂敷头(2d)相对移动；以及旋转机构(2b)，在与排出多个液滴的排出方向交叉的平面内使涂敷对象物(K1、K2)旋转。

公开(公告)号：CN1667468B

公开(公告)日：2010-11-10

申请号：CN200410094237.7

申请日：2004-10-27

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 泽山丰 ,  藤原小百合 ,  神户诚 ,  箕浦洁 ,  伊原一郎

IPC: G02F1/1335 ,  G02B5/12 ,  G09F9/00

CPC classification number: G02B5/124 ,  G02F1/133553 ,  Y10S359/90

Abstract: 一种角隅棱镜反射器包含单元的二维排列。该单元按200μm或更小的节距排列。当从入射光入射的方向看时，每个单元有一个峰点和一个谷点。一个包含峰点的峰区，与理想角隅棱镜的理想峰区相比，有一个过余区域和/或一个缺失区域。峰点的高度低于理想角隅棱镜的理想峰点之高度。谷点高度与理想角隅棱镜的理想谷点高度之间的平均高度差h2小于峰点高度与理想峰点高度之间的平均高度差h1。

公开(公告)号：CN1716010A

公开(公告)日：2006-01-04

申请号：CN200510076596.4

申请日：2005-06-09

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 藤原小百合 ,  泽山丰 ,  箕浦洁 ,  神户诚

IPC: G02F1/133 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02F1/136227 ,  G02F1/133553

Abstract: 反射型显示器件200包括：一包括多个切换元件201t的有源切换层201s；多个像素电极207，每一个均连接到一个相应的切换元件201t上；一在有源切换层201s与像素电极207之间形成的反射层205；以及一位于像素电极207面向观察者一侧的调制层213，该调制层213能在光学特性各不相同的第一态与第二态之间切换。反射层205既不与切换元件201t也不与像素电极207相连接。

公开(公告)号：CN107407888B

公开(公告)日：2019-03-29

申请号：CN201680010209.3

申请日：2016-02-17

Applicant: 株式会社V技术 ,  夏普株式会社

Inventor： 吉田祐治 ,  松本峰征 ,  新井敏成 ,  田中茂树 ,  片寄敬太 ,  铃木英幸 ,  神户诚

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/1337

Abstract: 本发明提供一种扫描曝光装置。为了改善扫描曝光装置的生产节拍时间并提高吞吐量，在进行光源的高照度化和扫描速度的高速化时，防止在基板的端部附近的曝光不均。扫描曝光装置(1)具备：载物台(2)，在与载物台表面(2A)之间设置间隙(2S)而支撑基板(W)；光源单元(3)，向沿基板(W)上的一方向延伸设置的光照射区域(3L)照射光；及扫描装置(4)，使载物台(2)与光源单元(3)的一方或双方沿与一方向交叉的扫描方向(S)相对移动，在扫描装置(4)中设置有从载物台(2)及光源单元(3)静止的位置直至被载物台(2)支撑的基板(W)进入到光照射区域(3L)的加速区间(F)，载物台(2)在其端部具备覆盖载物台表面(2A)与基板(W)之间的间隙(2S)的遮光体(20)。

公开(公告)号：CN104885007B

公开(公告)日：2017-11-21

申请号：CN201380068026.3

申请日：2013-12-20

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 今井启裕 ,  神户诚 ,  深山誉章 ,  上田亮 ,  小畑太一 ,  田中茂树

IPC: G02F1/1368

CPC classification number: G02F1/136227 ,  G02F1/133345 ,  G02F1/1337 ,  G02F1/134363 ,  G02F1/13439

Abstract: 阵列基板(11b)包括：第一导电膜；第二导电膜，其配置在第一导电膜靠的上层侧，至少一部分俯视时与第一导电膜重叠；绝缘膜，其以介于第一导电膜与第二导电膜之间的方式配置，具有接触孔，该接触孔以在俯视时与第一导电膜和第二导电膜重叠的位置开口的方式形成，由此将第二导电膜与第一导电膜连接；取向膜(11e)，其配置在第二导电膜的上层侧，具有俯视时与接触孔重叠的部分和俯视时与接触孔不重叠的部分；和弯曲部(43)，其由绝缘膜中的接触孔的开口边缘的至少一部分构成，以俯视时在内侧形成优角的方式弯曲。

公开(公告)号：CN100407025C

公开(公告)日：2008-07-30

申请号：CN200510076596.4

申请日：2005-06-09

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 藤原小百合 ,  泽山丰 ,  箕浦洁 ,  神户诚

IPC: G02F1/136 ,  G02F1/133 ,  G02F1/1335

CPC classification number: G02F1/136227 ,  G02F1/133553

Abstract: 反射型显示器件200包括：一包括多个切换元件201t的有源切换层201s；多个像素电极207，每一个均连接到一个相应的切换元件201t上；一在有源切换层201s与像素电极207之间形成的反射层205；以及一位于像素电极207面向观察者一侧的调制层213，该调制层213能在光学特性各不相同的第一态与第二态之间切换。反射层205既不与切换元件201t也不与像素电极207相连接。

公开(公告)号：CN1667468A

公开(公告)日：2005-09-14

申请号：CN200410094237.7

申请日：2004-10-27

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 泽山丰 ,  藤原小百合 ,  神户诚 ,  箕浦洁 ,  伊原一郎

IPC: G02F1/1335 ,  G02B5/12 ,  G09F9/00

CPC classification number: G02B5/124 ,  G02F1/133553 ,  Y10S359/90

Abstract: 一种角隅棱镜反射器包含单元的二维排列。该单元按200μm或更小的节距排列。当从入射光入射的方向看时，每个单元有一个峰点和一个谷点。一个包含峰点的峰区，与理想角隅棱镜的理想峰区相比，有一个过余区域和/或一个缺失区域。峰点的高度低于理想角隅棱镜的理想峰点之高度。谷点高度与理想角隅棱镜的理想谷点高度之间的平均高度差h2小于峰点高度与理想峰点高度之间的平均高度差h1。

公开(公告)号：CN1475835A

公开(公告)日：2004-02-18

申请号：CN03133254.4

申请日：2003-07-21

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 神户诚 ,  津田和彦 ,  藤原小百合

IPC: G02F1/133 ,  G02F1/1343 ,  H01L21/3205

CPC classification number: G02F1/133711 ,  G02F1/133553 ,  G02F1/13439 ,  Y10T428/10 ,  Y10T428/1005

Abstract: 一种显示器件包括：显示媒介层；和第一电极和第二电极，这些电极相互面对面的设置且在两者之间插入媒介层。第一电极包括：第一导电层，和第一高分子膜，该薄膜覆盖第一导电层且与显示媒介层相接触。带二电极包括：第二导电层；和第二高分子膜，该薄膜覆盖第二导电层且与显示媒介层相接触。至少第一导电层的部分具有不同于第二导电层的功函数。在第一和第二高分子膜各自所包括的苯环含量约为或小于100分子量的0.4。

公开(公告)号：CN105556382B

公开(公告)日：2019-02-19

申请号：CN201480052040.9

申请日：2014-07-17

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 今井启裕 ,  神户诚 ,  深山誉章 ,  上田亮 ,  田中茂树

IPC: G02F1/1337

Abstract: 阵列基板(11b)包括：被划分为显示区域(AA)和非显示区域(NAA)的玻璃基板(GS)；以跨越显示区域(AA)和非显示区域(NAA)的方式配置的有机绝缘膜(40)；以与有机绝缘膜(40)的表面重叠的方式设置的阵列基板侧取向膜(11e)；配置在非显示区域(NAA)并且以使有机绝缘膜(40)的表面部分地凹陷的方式设置的成膜范围限制部(28)；和取向膜材料储存部(29)，其配置在非显示区域(NAA)中比成膜范围限制部(28)更靠近显示区域(AA)的位置，并且以使有机绝缘膜(40)部分地凹陷的方式设置，并且，其侧面的至少一部分相对于玻璃基板(GS)的板面的法线方向形成的角度，大于成膜范围限制部(28)的侧面相对于上述法线方向形成的角度。

公开(公告)号：CN105556382A

公开(公告)日：2016-05-04

申请号：CN201480052040.9

申请日：2014-07-17

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 今井启裕 ,  神户诚 ,  深山誉章 ,  上田亮 ,  田中茂树

IPC: G02F1/1337

CPC classification number: G02F1/1337 ,  G02F1/133345 ,  G02F1/133711 ,  G02F1/1339 ,  G02F2001/133388

Abstract: 阵列基板(11b)包括：被划分为显示区域(AA)和非显示区域(NAA)的玻璃基板(GS)；以跨越显示区域(AA)和非显示区域(NAA)的方式配置的有机绝缘膜(40)；以与有机绝缘膜(40)的表面重叠的方式设置的阵列基板侧取向膜(11e)；配置在非显示区域(NAA)并且以使有机绝缘膜(40)的表面部分地凹陷的方式设置的成膜范围限制部(28)；和取向膜材料储存部(29)，其配置在非显示区域(NAA)中比成膜范围限制部(28)更靠近显示区域(AA)的位置，并且以使有机绝缘膜(40)部分地凹陷的方式设置，并且，其侧面的至少一部分相对于玻璃基板(GS)的板面的法线方向形成的角度，大于成膜范围限制部(28)的侧面相对于上述法线方向形成的角度。