研磨垫
    1.
    发明公开
    研磨垫 审中-实审

    公开(公告)号:CN116887947A

    公开(公告)日:2023-10-13

    申请号:CN202280015016.2

    申请日:2022-02-18

    Abstract: 本发明可抑制对研磨性能的影响,并且防止由终点检测用窗所得的终点检测精度的降低。研磨垫3包括检查光L1可透过的终点检测用窗12,在研磨垫3的研磨面3A形成有多个同心圆状的环状槽11。所述终点检测用窗12的表面形成于与所述研磨面3A相同的高度,所述环状槽11中,形成于与形成有所述终点检测用窗12的位置相同的半径位置的多个环状槽11A在所述终点检测用窗12的表面未形成有槽,而在所述终点检测用窗12的附近包括端部11a。进而,通过连结槽13将形成于与所述终点检测用窗12相同的半径位置的多个环状槽11A的端部11a与端部11a连接。

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