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公开(公告)号:CN107000173A
公开(公告)日:2017-08-01
申请号:CN201580006144.0
申请日:2015-07-27
Applicant: 富士纺控股株式会社
Abstract: 一种研磨刷,该研磨刷(4),其多个离开间隔的突起部(4b)和固定突起部(4b)的支承部(4a)由具有挠性的相同的材料一体地形成,进而突起部(4b)的侧面具有多个开孔,开孔率是10~70%。另外,突起部的高度(h)和该突起部的基部的在截面形状中的外接圆的半径(r)之比(h/r)是1.0~5.0的范围。由此,在研磨被研磨物(1)时,突起部的侧面能与被研磨物(1)压接,由保持在形成于突起部的侧面上的开孔中的料浆进行研磨。没有突起部(4b)的脱落,另外,能在突起部(4b)的侧面中良好地保持料浆地进行研磨。
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公开(公告)号:CN119013122A
公开(公告)日:2024-11-22
申请号:CN202380028544.6
申请日:2023-03-23
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/24 , B24B37/013 , B24B49/12 , H01L21/304
Abstract: 研磨垫,其具有研磨层、和设置于该研磨层的开口的终点检测窗,在拉伸模式、频率1.6Hz、30~55℃、及浸水状态的条件下进行的动态粘弹性测定中,40℃时的前述终点检测窗的储能模量E’w40与40℃时的前述研磨层的储能模量E’p40之比(E’p40/E’w40)为0.70~3.00。
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公开(公告)号:CN107000173B
公开(公告)日:2018-09-25
申请号:CN201580006144.0
申请日:2015-07-27
Applicant: 富士纺控股株式会社
Abstract: 一种研磨刷,该研磨刷(4),其多个离开间隔的突起部(4b)和固定突起部(4b)的支承部(4a)由具有挠性的相同的材料一体地形成,进而突起部(4b)的侧面具有多个开孔,开孔率是10~70%。另外,突起部的高度(h)和该突起部的基部的在截面形状中的外接圆的半径(r)之比(h/r)是1.0~5.0的范围。由此,在研磨被研磨物(1)时,突起部的侧面能与被研磨物(1)压接,由保持在形成于突起部的侧面上的开孔中的料浆进行研磨。没有突起部(4b)的脱落,另外,能在突起部(4b)的侧面中良好地保持料浆地进行研磨。
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公开(公告)号:CN105359258A
公开(公告)日:2016-02-24
申请号:CN201480037396.5
申请日:2014-07-01
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/24
CPC classification number: B24B37/24 , B24D3/28 , H01L21/02013 , H01L21/3221
Abstract: 本发明提供一种研磨垫,所述研磨垫是含有在研磨布基体含浸聚氨酯树脂及碳化硅而成的含树脂研磨布的研磨垫,所述碳化硅的粒径在0.2μm至3.0μm的范围内,而且在含树脂研磨布中,相对于研磨布基体100质量份是含有60质量份至500质量份的范围内的所述碳化硅。
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公开(公告)号:CN105359258B
公开(公告)日:2018-09-25
申请号:CN201480037396.5
申请日:2014-07-01
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/24
Abstract: 本发明提供一种研磨垫及其制造方法,所述研磨垫是含有在研磨布基体含浸聚氨酯树脂及碳化硅而成的含树脂研磨布的研磨垫,所述碳化硅的粒径在0.2μm至3.0μm的范围内,而且在含树脂研磨布中,相对于研磨布基体100质量份是含有60质量份至500质量份的范围内的所述碳化硅。根据本发明可提供可研磨硅晶片内面与形成吸杂层的研磨垫。
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公开(公告)号:CN108349062A
公开(公告)日:2018-07-31
申请号:CN201680063033.8
申请日:2016-10-25
Applicant: 富士纺控股株式会社
IPC: B24B37/24 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/24 , H01L21/304
Abstract: 研磨材料,其具有以经编或纬编构成的针织物、和含浸于该针织物中的树脂。
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