公开(公告)号：CN112514068B

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN201980050250.7

申请日：2019-08-01

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 特金德·辛格 ,  小泽武仁 ,  阿卜希吉特·巴苏·马尔利克 ,  普拉米特·曼娜 ,  南希·冯 ,  E·文卡塔苏布拉曼尼亚 ,  和勇·大卫·黄 ,  塞缪尔·E·戈特海姆

IPC: H10B12/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/762 ,  H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 描述了用以提供图案化的基板的装置及方法。通过以下步骤来形成多个图案化及隔开的第一线及碳材料线于基板表面上：选择性地沉积及蚀刻在第一方向上延伸的膜及在第二方向上延伸的膜，该第二方向与该第一方向交叉以图案化下层的结构。

公开(公告)号：CN112514068A

公开(公告)日：2021-03-16

申请号：CN201980050250.7

申请日：2019-08-01

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 特金德·辛格 ,  小泽武仁 ,  阿卜希吉特·巴苏·马尔利克 ,  普拉米特·曼娜 ,  南希·冯 ,  E·文卡塔苏布拉曼尼亚 ,  和勇·大卫·黄 ,  塞缪尔·E·戈特海姆

IPC: H01L27/108 ,  H01L21/02 ,  H01L21/762 ,  H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 描述了用以提供图案化的基板的装置及方法。通过以下步骤来形成多个图案化及隔开的第一线及碳材料线于基板表面上：选择性地沉积及蚀刻在第一方向上延伸的膜及在第二方向上延伸的膜，该第二方向与该第一方向交叉以图案化下层的结构。