公开(公告)号：CN116133791A

公开(公告)日：2023-05-16

申请号：CN202180059349.0

申请日：2021-03-08

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 普尼特·纳伦德拉·贾瓦利 ,  南丹·巴拉达纳哈里·肯查帕 ,  贾森·G·冯 ,  希扬·阿卡兰卡·贾亚纳特·韦瓦拉·戈纳加哈德尼亚 ,  拉杰夫·巴贾 ,  亚当·韦德·曼佐尼 ,  安德鲁·斯科特·劳恩

IPC: B24B37/22

Abstract: 本文中的实施方式大体涉及研磨垫及形成研磨垫的方法。在一个实施方式中，提供一种具有被配置为研磨基板的表面的研磨表面的研磨垫。研磨垫包括研磨层。研磨层的至少一部分包括研磨材料的连续相，其含有具有第一孔特征密度的多个第一区域及具有不同于第一孔特征密度的第二孔特征密度的多个第二区域。所述多个第一区域在研磨垫的X‑Y平面中呈图案分布且与多个第二区域并排布置，且所述多个第一区域中的个别部分或个别者介于所述多个第二区域中的个别部分或个别者之间。

公开(公告)号：CN114845836A

公开(公告)日：2022-08-02

申请号：CN202080089013.4

申请日：2020-11-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 阿尼鲁德·贾格迪什·坎纳 ,  贾森·G·冯 ,  普尼特·纳伦德拉·贾瓦利 ,  拉吉耶夫·巴贾杰 ,  亚当·韦德·曼佐尼 ,  南丹·巴拉达纳哈里·肯查帕 ,  维拉·拉哈瓦·雷迪·卡基雷迪 ,  安俊镐 ,  金载晳 ,  马尤·亚曼

IPC: B24B37/26 ,  B24B37/22 ,  H01L21/67

Abstract: 本文提供具有在聚合物材料的连续相内的变化孔隙度的离散和选择性排列区域的抛光垫。在一个实施方式中，抛光垫的特征为多个抛光元件，每一个抛光元件包括抛光表面和从抛光表面向下延伸以界定设置在抛光元件之间的多个通道的侧壁，其中一个或多个抛光元件是由聚合物材料的连续相所形成的，聚合物材料的连续相具有包括第一孔隙度的一个或多个第一区域和包括第二孔隙度的第二区域，其中第二孔隙度小于第一孔隙度。

公开(公告)号：CN117729986A

公开(公告)日：2024-03-19

申请号：CN202280052103.5

申请日：2022-05-23

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 希扬·阿卡兰卡·贾亚纳特·韦瓦拉·戈纳加哈德尼亚 ,  阿什温·乔卡林格 ,  贾森·G·冯 ,  维拉·拉哈瓦·雷迪·卡基雷迪 ,  南丹·巴拉达纳哈里·肯查帕 ,  普尼特·纳伦德拉·贾瓦利 ,  拉杰夫·巴贾

IPC: B24B37/24

Abstract: 本文的实施例大抵涉及抛光垫和形成抛光垫的方法。抛光垫包括多个抛光元件和设置在抛光元件之间的多个凹槽。每个抛光元件包括多个独立柱。每个柱包括形成抛光垫的抛光表面的一部分的独立表面，和从独立表面向下延伸的一个或多个侧壁。多个独立柱的侧壁限定设置在柱之间的多个孔。