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公开(公告)号：CN112384330A
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN201980044800.4
申请日：2019-03-29
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 阿什温·乔卡林格 , 杰森·G·冯 , 斯瓦帕基亚·甘纳塔皮亚潘 , 拉杰夫·巴贾 , 丹尼尔·雷德菲尔德
Abstract: 本公开内容的实施方式一般涉及抛光垫和制造抛光垫的方法，其可以被使用于半导体装置制造中的化学机械抛光(CMP)工艺。本文所述的抛光垫的特征在于抛光垫材料的连续聚合物相，所述抛光垫材料的连续聚合物相包括一或多个第一材料域和多个第二材料域。所述一或多个第一材料域由第一预聚物组合物的聚合反应产物形成，所述多个第二材料域由第二预聚物组合物的聚合反应产物形成，该第二预聚物组合物与第一预聚物组合物不同，并且一或多个第一材料域和多个第二材料之间的界面区域由第一预聚物组合物和第二预聚物组合物的共聚合反应产物所形成。
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公开(公告)号：CN107078054A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580052467.3
申请日：2015-10-09
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 兰加·拉奥·阿内帕利 , 罗伯特·简·维瑟 , 拉杰夫·巴贾 , 达尔尚·撒卡尔 , 普莉娜·古拉迪雅 , 乌代·马哈詹 , 阿卜杜尔·沃布·穆罕默德
IPC: H01L21/3105
CPC classification number: C09G1/02 , C01B33/149 , C01F17/0043 , C01P2002/72 , C01P2004/04 , C01P2004/52 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2004/84 , C01P2004/88 , C09K3/1436 , C09K3/1445 , C09K3/1463 , H01L21/31053
Abstract: 一种用于化学机械平坦化的浆料，该浆料包含表面活性剂及平均直径介于20nm至30nm之间且具有氧化铈外表面的研磨粒子。这些研磨粒子是使用水热合成工艺所形成。这些研磨粒子占该浆料的0.1重量％至3重量％。
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公开(公告)号：CN110382165A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201880014288.4
申请日：2018-03-08
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞沙德里·拉马斯瓦米 , 拉杰夫·巴贾 , 尼兰詹·库玛尔 , 斯里斯卡塔拉贾赫·西里纳瓦卡拉苏 , 阿尔文·桑德拉扬
IPC: B24B37/30 , B24B37/04 , H01L21/304 , H01L21/306 , H01L21/67 , H01L21/673 , H01L21/683
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及用于抛光具有高平整性的薄基板的系统、设备和方法。设备包括化学机械抛光头和板。抛光头包括底表面、扣环、在底表面与扣环之间限定的工件接收袋和至少一个真空口，真空口适于通过抛光头的底表面向工件接收袋提供真空。板设置在工件接收袋中，使得板的上侧面向抛光头的底表面，而板的下侧面向远离抛光头的底表面。板具有几何形状或材料性质，经配置以当在工件接收袋中施加真空时，允许流体通过板的上侧与下侧之间。
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公开(公告)号：CN114502324B
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202080069546.6
申请日：2020-08-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 骆英东 , 斯瓦帕基亚·甘纳塔皮亚潘 , 阿什温·穆鲁加潘·乔卡林加姆 , 张代化 , 乌马·斯利德哈尔 , 丹尼尔·雷德菲尔德 , 拉杰夫·巴贾 , 奈格·B·帕蒂班德拉 , 胡·T·额 , 苏达卡尔·马杜苏达南
IPC: B24B37/24 , B29C64/112 , B33Y10/00 , B33Y40/10 , B33Y70/10 , B33Y80/00 , C09D11/101 , C09D11/104 , C09D11/107 , C09D11/322 , C09K3/14 , B29K33/00 , B29K509/02 , B29L31/00
Abstract: 用于抛光垫的增材制造的配方、系统与方法。配方包括单体、分散剂与纳米颗粒。制备配方的方法包括以下步骤：将是聚酯衍生物的分散剂添加至单体、将金属‑氧化物纳米颗粒添加至单体并使具有纳米颗粒与分散剂的单体接受声波处理以将纳米颗粒分散在单体中。
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公开(公告)号：CN117729986A
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202280052103.5
申请日：2022-05-23
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 希扬·阿卡兰卡·贾亚纳特·韦瓦拉·戈纳加哈德尼亚 , 阿什温·乔卡林格 , 贾森·G·冯 , 维拉·拉哈瓦·雷迪·卡基雷迪 , 南丹·巴拉达纳哈里·肯查帕 , 普尼特·纳伦德拉·贾瓦利 , 拉杰夫·巴贾
IPC: B24B37/24
Abstract: 本文的实施例大抵涉及抛光垫和形成抛光垫的方法。抛光垫包括多个抛光元件和设置在抛光元件之间的多个凹槽。每个抛光元件包括多个独立柱。每个柱包括形成抛光垫的抛光表面的一部分的独立表面，和从独立表面向下延伸的一个或多个侧壁。多个独立柱的侧壁限定设置在柱之间的多个孔。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113677481A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202080027320.X
申请日：2020-03-10
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乌马·斯利德哈尔 , 斯瓦帕基亚·甘纳塔皮亚潘 , 阿什温·乔卡林格 , 骆英东 , 丹尼尔·雷德菲尔德 , 拉杰夫·巴贾 , 奈格·B·帕蒂班德拉 , 胡·T·额 , 苏达卡尔·马杜苏达南
IPC: B24B37/24 , B24D18/00 , B29C64/112 , B33Y10/00 , B33Y70/00
Abstract: 提供了抛光制品以及制造在抛光工艺及清洁工艺中使用的抛光制品的方法。更具体而言，本文披露的实施方式涉及具有可调性质(诸如亲水性及zeta电位)的复合抛光制品。由UV可固化丙烯酸化学试剂构成的3D打印的化学机械平坦化(CMP)垫通常本质上是疏水的。此种疏水行为影响基于磨料的抛光浆料(诸如基于二氧化铈的浆料)的润湿性质。然而，为了增加平坦化及移除速率同时减少缺陷，亲水垫是较佳的。此外，在不同pH值下，期望垫的zeta电位(Zp)可在宽的条件范围中调谐。本公开内容的实施方式包括用阴离子添加剂来增加亲水性及调谐垫的Zp的方法以及使用这些方法产生的垫。
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公开(公告)号：CN116372799A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202211653820.1
申请日：2019-03-29
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 阿什温·乔卡林格 , 杰森·G·冯 , 斯瓦帕基亚·甘纳塔皮亚潘 , 拉杰夫·巴贾 , 丹尼尔·雷德菲尔德
Abstract: 本公开内容的实施方式一般涉及抛光垫和制造抛光垫的方法，其可以被使用于半导体装置制造中的化学机械抛光(CMP)工艺。本文所述的抛光垫的特征在于抛光垫材料的连续聚合物相，所述抛光垫材料的连续聚合物相包括一或多个第一材料域和多个第二材料域。所述一或多个第一材料域由第一预聚物组合物的聚合反应产物形成，所述多个第二材料域由第二预聚物组合物的聚合反应产物形成，该第二预聚物组合物与第一预聚物组合物不同，并且一或多个第一材料域和多个第二材料之间的界面区域由第一预聚物组合物和第二预聚物组合物的共聚合反应产物所形成。
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公开(公告)号：CN116133791A
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202180059349.0
申请日：2021-03-08
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 普尼特·纳伦德拉·贾瓦利 , 南丹·巴拉达纳哈里·肯查帕 , 贾森·G·冯 , 希扬·阿卡兰卡·贾亚纳特·韦瓦拉·戈纳加哈德尼亚 , 拉杰夫·巴贾 , 亚当·韦德·曼佐尼 , 安德鲁·斯科特·劳恩
IPC: B24B37/22
Abstract: 本文中的实施方式大体涉及研磨垫及形成研磨垫的方法。在一个实施方式中，提供一种具有被配置为研磨基板的表面的研磨表面的研磨垫。研磨垫包括研磨层。研磨层的至少一部分包括研磨材料的连续相，其含有具有第一孔特征密度的多个第一区域及具有不同于第一孔特征密度的第二孔特征密度的多个第二区域。所述多个第一区域在研磨垫的X‑Y平面中呈图案分布且与多个第二区域并排布置，且所述多个第一区域中的个别部分或个别者介于所述多个第二区域中的个别部分或个别者之间。
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公开(公告)号：CN112384330B
公开(公告)日：2022-12-30
申请号：CN201980044800.4
申请日：2019-03-29
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 阿什温·乔卡林格 , 杰森·G·冯 , 斯瓦帕基亚·甘纳塔皮亚潘 , 拉杰夫·巴贾 , 丹尼尔·雷德菲尔德
Abstract: 本公开内容的实施方式一般涉及抛光垫和制造抛光垫的方法，其可以被使用于半导体装置制造中的化学机械抛光(CMP)工艺。本文所述的抛光垫的特征在于抛光垫材料的连续聚合物相，所述抛光垫材料的连续聚合物相包括一或多个第一材料域和多个第二材料域。所述一或多个第一材料域由第一预聚物组合物的聚合反应产物形成，所述多个第二材料域由第二预聚物组合物的聚合反应产物形成，该第二预聚物组合物与第一预聚物组合物不同，并且一或多个第一材料域和多个第二材料之间的界面区域由第一预聚物组合物和第二预聚物组合物的共聚合反应产物所形成。
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公开(公告)号：CN114502324A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202080069546.6
申请日：2020-08-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 骆英东 , 斯瓦帕基亚·甘纳塔皮亚潘 , 阿什温·穆鲁加潘·乔卡林加姆 , 张代化 , 乌马·斯利德哈尔 , 丹尼尔·雷德菲尔德 , 拉杰夫·巴贾 , 奈格·B·帕蒂班德拉 , 胡·T·额 , 苏达卡尔·马杜苏达南
IPC: B24B37/24 , B29C64/112 , B33Y10/00 , B33Y40/10 , B33Y70/10 , B33Y80/00 , C09D11/101 , C09D11/104 , C09D11/107 , C09D11/322 , C09K3/14 , B29K33/00 , B29K509/02 , B29L31/00
Abstract: 用于抛光垫的增材制造的配方、系统与方法。配方包括单体、分散剂与纳米颗粒。制备配方的方法包括以下步骤：将是聚酯衍生物的分散剂添加至单体、将金属‑氧化物纳米颗粒添加至单体并使具有纳米颗粒与分散剂的单体接受声波处理以将纳米颗粒分散在单体中。
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