真空处理用腔室
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101203625A

    公开(公告)日:2008-06-18

    申请号:CN200680016257.X

    申请日:2006-07-21

    CPC classification number: C23C14/564 B01J3/006

    Abstract: 本发明提供能够简化冷却用流路的配设结构的真空处理用腔室。本发明的真空处理用腔室,具有多片壁构件(1、2、3、4、11、12、13),该壁构件(1、2、3、4、11、12、13)的表面的一部分形成接合面,该接合面之间气密接合形成的接合部,将所述多片壁构件(1、2、3、4、11、12、13)加以接合,构成腔室主体(100)的真空处理用腔室,至少一部分接合部(10),是在接合面内形成沿该接合面延伸的间隙(30、31),而且该接合面的周围利用焊接气密接合形成间隙内藏型接合部(10)。

    真空处理用腔室
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100577861C

    公开(公告)日:2010-01-06

    申请号:CN200680016257.X

    申请日:2006-07-21

    CPC classification number: C23C14/564 B01J3/006

    Abstract: 本发明提供能够简化冷却用流路的配设结构的真空处理用腔室。本发明的真空处理用腔室,具有多片壁构件(1、2、3、4、11、12、13),该壁构件(1、2、3、4、11、12、13)的表面的一部分形成接合面,该接合面之间气密接合形成的接合部,将所述多片壁构件(1、2、3、4、11、12、13)加以接合,构成腔室主体(100)的真空处理用腔室,至少一部分接合部(10),是在接合面内形成沿该接合面延伸的间隙(30、31),而且该接合面的周围利用焊接气密接合形成间隙内藏型接合部(10)。

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