公开(公告)号：CN109440079A

公开(公告)日：2019-03-08

申请号：CN201811349160.1

申请日：2018-11-13

Applicant: 武汉力诚光学仪器有限公司

Inventor： 骆得胜

IPC: C23C14/56

CPC classification number: C23C14/564

Abstract: 本发明公开了用于制备光学镜片的真空镀膜机，包括真空镀膜机本体，所述真空镀膜机本体底部的四角均固定连接有支撑柱，所述真空镀膜机本体的底部连通有沉降管，所述沉降管的底部固定连接有粉尘收集箱，所述粉尘收集箱的顶部与沉降管的底部相连通，所述沉降管内壁的顶部设置有自密封机构，所述沉降管右侧的底部连通有真空管。本发明通过自密封机构能够实时对沉降管进行密封，同时再通过烘干回收机构将粉尘收集箱内部的靶材粉尘进行烘干回收使用，解决了现有真空镀膜机不能够进行粉尘回收的问题，该用于制备光学镜片的真空镀膜机，具备靶材粉尘可回收的优点，缩减了生产成本，提高了节能生产效率。

公开(公告)号：CN108504995A

公开(公告)日：2018-09-07

申请号：CN201810157168.1

申请日：2018-02-24

Applicant: 萨特隆股份公司

Inventor： 佛朗哥·莫雷尼 ,  安东尼奥·柯瑞亚 ,  T·蒂奥达托 ,  G·狄波拉

IPC: C23C14/28 ,  C23C14/50

CPC classification number: C23C14/30 ,  C23C14/24 ,  C23C14/50 ,  C23C14/564 ,  G02B1/11 ,  C23C14/28

Abstract: 用于基材的真空涂布的箱式涂布设备(10)包括真空室(12)，该真空室(12)包含用于蒸发涂布材料的蒸发源(14)和相对于蒸发源面对面设置的基材支架(16)，使得被蒸发源蒸发的涂布材料能够撞击在由所述基材支架保持的基材上。电加热装置(18)居中布置在真空室中，该电加热装置(18)适于在真空检查和清洁程序的情况下加热真空室。为了也适于在沉积过程之前从真空室移除，加热装置设置有支座(20)，该支座(20)具有安装到底板(36)的多个支腿部分(34)，这些支腿部分的大小适于并布置在所述底板处，使得所述加热装置可以放置在蒸发源的上方。

公开(公告)号：CN107805794A

公开(公告)日：2018-03-16

申请号：CN201711188437.2

申请日：2017-11-16

Applicant: 温州卡耐夫电器有限公司

Inventor： 孔晓燕

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/14

CPC classification number: C23C14/564 ,  C23C14/14

Abstract: 本发明公开了一种用于真空镀铝机的除水蒸汽结构，包括设置在真空镀铝机内部的除水蒸汽结构，除水蒸汽结构包括至少一个中空的球冠体，在球冠体的底部固定有两个支撑杆，还设置有底部封闭的支撑圆筒，支撑杆的顶端固定在球冠体的内表面底端且底端固定在支撑圆筒的内壁顶部，在球冠体的侧壁内设置有空腔，还设有循环水冷箱，循环水冷箱内设置有水泵，在支撑圆筒的底壁上设置有循环进水接口、循环出水接口和排水接口，在支撑杆的表面设置有螺旋导水凹槽，在排水接口上设置有排水阀。本发明的结构设置合理，不但可以保证接触冷却面积，而且有利于提高抽真空的效果，有利于提高镀铝的效果，使用稳定性好，适用性强且实用性好。

公开(公告)号：CN105556640B

公开(公告)日：2018-01-26

申请号：CN201480049216.5

申请日：2014-09-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 纳根德拉·V·马迪瓦 ,  罗伯特·欧文·德科蒂尼斯 ,  安德鲁·阮 ,  保罗·B·路透 ,  安吉拉·R·斯科 ,  迈克尔·库查尔 ,  特雷斯·莫瑞 ,  米切尔·迪桑图

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/6719 ,  C23C14/564 ,  C23C14/566 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/45563 ,  H01L21/67126 ,  Y10T29/49432

Abstract: 一种电子装置制造系统可包括腔室端口组件，该腔室端口组件提供传送腔室与处理腔室之间的接口。在某些实施方式中，该腔室端口组件可配置来导引净化气流至该腔室端口组件的基板传送区域中。在其他实施方式中，处理腔室及/或该传送腔室可配置来导引净化气流至该基板传送区域中。流入该基板传送区域中的该净化气流可防止及/或减少来自腔室硬件的微粒状物质迁移至正在该传送腔室与处理腔室之间传送的基板上。也提供组装腔室端口组件的方法，以及其他态样。

公开(公告)号：CN104752274B

公开(公告)日：2017-12-19

申请号：CN201410431336.3

申请日：2014-08-28

Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司

Inventor： 吕峰 ,  张风港 ,  赵梦欣 ,  丁培军

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01J37/32642 ,  C23C14/0068 ,  C23C14/34 ,  C23C14/564 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32633 ,  H01J37/32733 ,  H01J37/32853 ,  H01J37/34 ,  H01J37/3411 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67207

Abstract: 本发明提供的工艺腔室以及半导体加工设备，其包括反应舱、进气系统和晶片传输装置，其中，反应舱设置在工艺腔室内，用以对晶片进行工艺；进气系统用于向反应舱提供工艺气体；晶片传输装置用于将晶片传输至反应舱内，在反应舱内设置有衬环组件，衬环组件的结构被设置为在其与反应舱的内侧壁之间形成匀流腔，用以将来自进气系统的工艺气体通过所述匀流腔均匀地输送至反应舱内。本发明提供的工艺腔室，其可以提高工艺气体进入反应舱的速度、控制参与工艺过程的工艺气体的流量的准确度，以及工艺气体在反应舱内的分布均匀性。

公开(公告)号：CN103406300B

公开(公告)日：2017-11-03

申请号：CN201310315038.3

申请日：2008-06-30

Applicant: 量子全球技术有限公司

Inventor： 包立源 ,  萨曼莎·S·H·潭 ,  蒋安北

IPC: B08B3/08

CPC classification number: C23G3/00 ,  B08B3/08 ,  C23C14/564 ,  C23C16/4407 ,  C23F1/00 ,  C23F1/26 ,  C23F1/44 ,  C23G1/00 ,  C23G1/22

Abstract: 本发明提供用选择性喷涂刻蚀来清洁沉积室零件的方法和设备。在一个方面，提供了对电子器件制造处理室零件进行清洁的方法，包括：a)用酸喷涂零件；b)用DI水喷涂该零件；和c)用氢氧化钾处理该零件。还提供了其他方面。

公开(公告)号：CN107236933A

公开(公告)日：2017-10-10

申请号：CN201710657221.X

申请日：2017-08-03

Applicant: 肇庆市科润真空设备有限公司

Inventor： 朱建明

IPC: C23C14/26 ,  C23C14/35 ,  C23C14/46 ,  C23C14/56

CPC classification number: C23C14/26 ,  C23C14/35 ,  C23C14/46 ,  C23C14/564

Abstract: 本发明公开一种柔性基材镀厚膜用的镀膜设备及方法，其设备包括依次连接的放卷室、离子处理室、多个镀膜室和收卷室，离子处理室和多个镀膜室沿镀膜水冷辊的外周进行分布，放卷室和收卷室分别设于镀膜水冷辊的两侧；多个镀膜室中，位于中部的镀膜室中设置连续式蒸发镀膜源，其余各镀膜室中设置中频磁控靶。其方法是柔性基材完成离子处理后，沿镀膜水冷辊的转动依次送入各个镀膜室中，先由中频磁控靶对柔性基材表面进行至少一次溅射镀膜，然后通过连续式蒸发镀膜源对柔性基材进行蒸发镀膜，再由中频磁控靶对柔性基材表面进行至少一次溅射镀膜，最后送出。本发明可实现柔性基材表面厚膜层的镀制，镀膜效率高，膜层表面均匀性也高。

公开(公告)号：CN106929824A

公开(公告)日：2017-07-07

申请号：CN201511016060.3

申请日：2015-12-29

Applicant: 中国建材国际工程集团有限公司 ,  CTF太阳能有限公司

Inventor： 米夏勒·哈尔 ,  彭寿

IPC: C23C16/44 ,  C23C14/56

CPC classification number: C23C14/56 ,  C23C16/44 ,  C23C16/4407 ,  C23C14/564

Abstract: 本发明涉及一种清洁覆层设施中基底运输机构的方法和设备以及覆层设施。该运输机构在覆层设施内位置固定并旋转，该覆层设施具有至少一个这种设备。在此，至少在运输机构的一个区段中，在利用使寄生层或颗粒从运输机构脱离的工艺的情况下在覆层设施运行期间并且在覆层设施内部对运输机构进行清洁，其中，通过热学上的脱离工艺或者通过机械式的脱离工艺从运输机构去除掉寄生层或颗粒，在热学上的脱离工艺中，运输机构在局部被如下这样地强烈加热，即，使寄生层或颗粒从运输机构的表面蒸发掉。

公开(公告)号：CN105051246B

公开(公告)日：2017-04-12

申请号：CN201480006631.2

申请日：2014-01-23

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 穆罕默德·M·拉希德 ,  汪荣军 ,  清·X·源 ,  唐先明

IPC: C23C14/35

CPC classification number: H01J37/3408 ,  C23C14/35 ,  C23C14/564 ,  H01J37/3288 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3452 ,  H01J37/3455 ,  H01J37/3476

Abstract: 双磁控管，特别有用于RF等离子体溅射，包括：径向静止开环磁控管(82)，包括相对磁极(90、92)且绕中央轴(14)旋转以扫描溅射目标(20)的外部区域；和径向可移动式开环磁控管(84)，包括相对磁极(96、98)且与该静止磁控管一起旋转。在处理期间(图2)，该可移动式磁控管以开口端邻接于该静止磁控管的开口端径向地放置于外部区域中，以形成单一开环磁控管。在清理期间(图3)，该可移动式磁控管的部分径向地向内移动以扫描及清理目标未被该静止磁控管扫描的内部区域。该可移动式磁控管可装设于臂(114)上，该臂于旋转碟状平板(100)的周边处绕轴(118)转动，该静止磁控管装设于该碟状平板，使得该臂离心地根据旋转速率或方向在径向位置间移动。

公开(公告)号：CN106480402A

公开(公告)日：2017-03-08

申请号：CN201610390680.1

申请日：2016-06-02

Applicant: 株式会社岛津制作所

Inventor： 市冈圣菜 ,  吉牟田利典 ,  徳田敏 ,  吉冈尚规 ,  上野智子 ,  尾崎悟

IPC: C23C14/02 ,  C23C14/20 ,  C23C14/34

CPC classification number: H01J37/32715 ,  C23C14/34 ,  C23C14/564 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/5096 ,  H01J37/34 ,  H01J37/3426 ,  C23C14/02 ,  C23C14/205

Abstract: 本发明提供一种成膜装置及成膜方法，在聚碳酸酯上形成金属薄膜的情况下，能防止金属薄膜剥离，另外，在其他树脂上形成金属薄膜的情况下，能提高金属薄膜的反射率。在不会使水分附着于从树脂成型机(63)搬出的成型后的工件(W)的表面的60秒以内的短时间内，完成从树脂成型机(63)中的工件导入部(62)向成膜腔室件(W)的表面在成膜过程中发生水解，从而能防止通过溅射而形成的金属薄膜剥离这一现象。另外，通过减少附着于树脂基材的水分，能防止Al氧化而获得良好的反射率。(10)搬送工件(W)。由此，能防止聚碳酸酯制的工