公开(公告)号：CN101528978B

公开(公告)日：2011-05-25

申请号：CN200780022302.7

申请日：2007-06-14

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 青峰信孝 ,  青嶋有纪 ,  林和志 ,  钉宫敏洋 ,  古保里隆

IPC: C23C16/505 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/505 ,  C23C16/40 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32761

Abstract: 在接近大气压的压力气氛的条件下，使用等离子体在基板上形成薄膜时，即使将电极和基板之间的间隙设定得比以往宽，也可以抑制反应气体反应而产生的微粒，且稳定地形成均质的薄膜。通过向旋转中心轴相对于基板平行的圆筒状的旋转电极(12)供给电力，从而在所述旋转电极(12)和基板(S)之间的间隙中生成等离子体，使用生成的等离子体，使所供给的反应气体(G)活化而在基板(S)上形成薄膜时，使旋转电极(12)和基板(S)之间的间隙宽度为2mm～7mm，向旋转电极(12)供给频率为100kHz～1GHz的高频电力。

公开(公告)号：CN101528978A

公开(公告)日：2009-09-09

申请号：CN200780022302.7

申请日：2007-06-14

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 青峰信孝 ,  青嶋有纪 ,  林和志 ,  钉宫敏洋 ,  古保里隆

IPC: C23C16/505 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/505 ,  C23C16/40 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32761

Abstract: 在接近大气压的压力气氛的条件下，使用等离子体在基板上形成薄膜时，即使将电极和基板之间的间隙设定得比以往宽，也可以抑制反应气体反应而产生的微粒，且稳定地形成均质的薄膜。通过向旋转中心轴相对于基板平行的圆筒状的旋转电极(12)供给电力，从而在所述旋转电极(12)和基板(S)之间的间隙中生成等离子体，使用生成的等离子体，使所供给的反应气体(G)活化而在基板(S)上形成薄膜时，使旋转电极(12)和基板(S)之间的间隙宽度为2mm～7mm，向旋转电极(12)供给频率为100kHz～1GHz的高频电力。

公开(公告)号：CN1875129A

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：CN200480031912.X

申请日：2004-10-27

Applicant: 株式会社神户制钢所 ,  旭硝子株式会社

Inventor： 林和志 ,  钉宫敏洋 ,  古保里隆 ,  海老泽纯一 ,  佐藤一夫 ,  吉川幸雄

IPC: C23C16/455 ,  C23F4/00 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31

CPC classification number: H01J37/32449 ,  C23C16/45589 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02186 ,  H01L21/02271 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/31612 ,  H01L21/67017

Abstract: 本发明的课题为，以简略且低成本的结构，使向基材上的均匀的气体供给成为可能，而实现高质量的表面处理。作为其解决的方法，是一边将基材(12)朝特定方向搬送，一边向其表面供给表面处理用气体，由此进行基材(12)的表面处理，作为所述表面处理用气体的供给机构，是使具有圆筒状外周面的旋转体(24)的上述外周面，与所述基材(12)的表面、或设置于从上述基材相离的位置的对向构件(20)，隔有间隙(23)而相对向，使之以与所述基材(12)的搬送方向大致垂直的方向的轴为中心而旋转。由此旋转，使所述表面处理用气体卷入旋转体(24)的外周面，导向所述间隙(23)，从此间隙(23)向所述基材(12)的表面送出表面处理用气体。

公开(公告)号：CN100523290C

公开(公告)日：2009-08-05

申请号：CN200480031912.X

申请日：2004-10-27

Applicant: 株式会社神户制钢所 ,  旭硝子株式会社

Inventor： 林和志 ,  钉宫敏洋 ,  古保里隆 ,  海老泽纯一 ,  佐藤一夫 ,  吉川幸雄

IPC: C23C16/455 ,  C23F4/00 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31

CPC classification number: H01J37/32449 ,  C23C16/45589 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/02164 ,  H01L21/02186 ,  H01L21/02271 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/31612 ,  H01L21/67017

Abstract: 本发明的课题为，以简略且低成本的结构，使向基材上的均匀的气体供给成为可能，而实现高质量的表面处理。作为其解决的方法，是一边将基材(12)朝特定方向搬送，一边向其表面供给表面处理用气体，由此进行基材(12)的表面处理，作为所述表面处理用气体的供给机构，是使具有圆筒状外周面的旋转体(24)的上述外周面，与所述基材(12)的表面、或设置于从上述基材相离的位置的对向构件(20)，隔有间隙(23)而相对向，使之以与所述基材(12)的搬送方向大致垂直的方向的轴为中心而旋转。由此旋转，使所述表面处理用气体卷入旋转体(24)的外周面，导向所述间隙(23)，从此间隙(23)向所述基材(12)的表面送出表面处理用气体。