Patent search ap:("昭和电工株式会社") AND inv:"佐藤隆" Page 1

1.

发明公开
抛光组合物和抛光方法无效

公开(公告)号：CN1902292A

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：CN200480040401.4

申请日：2004-11-15

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 鱼谷信夫 , 高桥博 , 佐藤隆 , 佐藤配岛

IPC: C09G1/02 , H01L21/321

CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/32115 , H01L21/3212 , H01L21/7684

Abstract: 为了提供允许在进行高速抛光的同时防止蚀刻和侵蚀并且维持金属膜的平直度的抛光组合物，本发明提供一种抛光组合物，它包含(A)具有三个或三个以上吡咯结构部分的化合物；(B)氧化剂；和(C)选自氨基酸、有机酸和无机酸中的一种或多种物质。

Patent Agency Ranking