公开(公告)号：CN101981619A

公开(公告)日：2011-02-23

申请号：CN200980111091.3

申请日：2009-03-30

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 福岛正人 ,  岡田翼 ,  山崎浩之 ,  今井直行

IPC: G11B5/855 ,  B05C11/08 ,  B05D1/40

CPC classification number: G11B5/855 ,  B05D1/00 ,  B05D1/002

Abstract: 本发明提供一种能够将涂液均匀地涂布在被处理基板的两面上并在被处理基板的两面上形成均匀的涂膜的双面涂布装置。双面涂布装置(1)包括以被处理基板(2)的厚度方向为水平方向的方式保持被处理基板(2)的保持机构(3a)、使被处理基板(2)沿周向旋转的旋转驱动机构、将涂液喷出到被处理基板(2)的一个主面(2a)上的第一涂液用喷嘴(18a)、和将涂液喷出到被处理基板(2)的另一主面(2b)上的第二涂液用喷嘴(18b)。第一涂液用喷嘴(18a)和第二涂液用喷嘴相对于被处理基板(2)的厚度中心面对称配置。提供一种边缘清洗装置，能够正确稳定地仅对基板的外缘部的一定宽度进行清洗，即使应该清洗的外缘部的宽度窄，也能轻易地控制要清洗的外缘部的宽度。

公开(公告)号：CN103730135A

公开(公告)日：2014-04-16

申请号：CN201310467368.4

申请日：2013-10-09

Applicant: 昭和电工株式会社 ,  株式会社东芝 ,  国立大学法人东北大学

Inventor： 柴田寿人 ,  井上健 ,  岡田翼 ,  黑川刚平 ,  斋藤伸 ,  日向慎太朗 ,  高桥研 ,  前田知幸 ,  矶胁洋介 ,  喜喜津哲

IPC: G11B5/667 ,  G11B5/84

CPC classification number: G11B5/738 ,  G11B5/7325 ,  G11B5/84

Abstract: 一种磁记录介质（50），是在非磁性基板（1）之上至少层叠有控制正上层的取向性的取向控制层（9）、和易磁化轴相对于所述非磁性基板主要垂直地取向的垂直磁性层（4）的磁记录介质（50），取向控制层（9）具备：包含Ru或Ru合金的含Ru层（3）；和设置于含Ru层（3）的垂直磁性层（4）侧，包含熔点为1500℃以上4215℃以下的、共价键合或离子键合的材料，防止含Ru层（3）的Ru原子的热扩散的防止扩散层（8），垂直磁性层（4）包含通过防止扩散层（8）继承含Ru层（3）的晶粒的晶体结构、并与晶粒一同在厚度方向连续的柱状晶体。

公开(公告)号：CN103730135B

公开(公告)日：2017-04-12

申请号：CN201310467368.4

申请日：2013-10-09

Applicant: 昭和电工株式会社 ,  株式会社东芝 ,  国立大学法人东北大学

Inventor： 柴田寿人 ,  井上健 ,  岡田翼 ,  黑川刚平 ,  斋藤伸 ,  日向慎太朗 ,  高桥研 ,  前田知幸 ,  矶胁洋介 ,  喜喜津哲

IPC: G11B5/667 ,  G11B5/84

Abstract: 一种磁记录介质（50），是在非磁性基板（1）之上至少层叠有控制正上层的取向性的取向控制层（9）、和易磁化轴相对于所述非磁性基板主要垂直地取向的垂直磁性层（4）的磁记录介质（50），取向控制层（9）具备：包含Ru或Ru合金的含Ru层（3）；和设置于含Ru层（3）的垂直磁性层（4）侧，包含熔点为1500℃以上4215℃以下的、共价键合或离子键合的材料，防止含Ru层（3）的Ru原子的热扩散的防止扩散层（8），垂直磁性层（4）包含通过防止扩散层（8）继承含Ru层（3）的晶粒的晶体结构、并与晶粒一同在厚度方向连续的柱状晶体。