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公开(公告)号:CN101970209A
公开(公告)日:2011-02-09
申请号:CN200980103147.0
申请日:2009-01-28
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: B29C59/02 , G11B5/84 , H01L21/027
CPC classification number: G11B5/855
Abstract: 本发明的目的在于提供使用氧蚀刻耐性优异且适用期长的抗蚀剂形成材料的、可以在常温下矩形性良好地进行压印(压纹)的凹凸图案形成方法。本发明的凹凸图案形成方法的特征在于,包括下述工序(1)、工序(2)和工序(3),工序(1):将包含下述组成式(A)所表示的倍半硅氧烷化合物的溶液涂布在被加工材料表面上以形成薄膜,工序(2):将具有凹凸图案的母模按压在该薄膜上,工序(3):将所述母模从所述薄膜上剥离。R1R2Si2O3组成式(A)(在上述组成式(A)中,R1和R2各自独立地表示特定基团。)。
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公开(公告)号:CN103918351A
公开(公告)日:2014-07-09
申请号:CN201280055105.6
申请日:2012-11-02
Applicant: 昭和电工株式会社
CPC classification number: H01L33/08 , H01L33/005 , H01L33/24 , H01L33/44 , H01L33/62 , H01L51/5012 , H01L51/5209 , H01L51/5262 , H01L2251/5361 , H01L2933/0025
Abstract: 本发明提供一种发光装置(10),具备基板(11);形成在基板(11)上的第1电极层(阳极层)(12);在第1电极层(12)上直接或隔着其他层形成的电介质层(13);在电介质层(13)上直接或隔着其他层形成的第2电极层(阴极层)(14);贯通第1电极层(12)与第2电极层(14)的至少一方的电极层和电介质层(13)的多个凹部(16);包含发光部(17)的发光区域,发光部(17)是与第1电极层(12)和第2电极层(14)接触并在凹部(16)的内部至少与第1电极层(12)和电介质层(13)接触而形成的;以及形成在发光区域的外侧,将第1电极层(12)与第2电极层(14)之中表面电阻大的一方的电极层与电源连接的端子部(阳极端子部)(15),在发光区域内多个凹部(16)被形成为在电介质层(13)的上表面的凹部(16)的平面形状的轮廓线长度的每单位面积的总和从与端子部(15)接近的区域到远离的区域增大。
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公开(公告)号:CN101981619A
公开(公告)日:2011-02-23
申请号:CN200980111091.3
申请日:2009-03-30
Applicant: 昭和电工株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够将涂液均匀地涂布在被处理基板的两面上并在被处理基板的两面上形成均匀的涂膜的双面涂布装置。双面涂布装置(1)包括以被处理基板(2)的厚度方向为水平方向的方式保持被处理基板(2)的保持机构(3a)、使被处理基板(2)沿周向旋转的旋转驱动机构、将涂液喷出到被处理基板(2)的一个主面(2a)上的第一涂液用喷嘴(18a)、和将涂液喷出到被处理基板(2)的另一主面(2b)上的第二涂液用喷嘴(18b)。第一涂液用喷嘴(18a)和第二涂液用喷嘴相对于被处理基板(2)的厚度中心面对称配置。提供一种边缘清洗装置,能够正确稳定地仅对基板的外缘部的一定宽度进行清洗,即使应该清洗的外缘部的宽度窄,也能轻易地控制要清洗的外缘部的宽度。
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公开(公告)号:CN101978420B
公开(公告)日:2013-06-05
申请号:CN200980109283.0
申请日:2009-03-10
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: G11B5/84 , C09D183/04 , G11B5/65
CPC classification number: G11B5/855 , C09D183/06 , G03F7/0757
Abstract: 本发明提供了一种磁记录介质的制造方法,是在非磁性基板上至少具有记录层和保护膜的磁记录介质的制造方法,其特征在于,依次具有以下工序:在基板上形成连续的记录层的工序,形成图案化的抗蚀剂层的工序,依照该抗蚀剂图案部分性地除去上述记录层的工序,在上述记录层和已除去记录层的部位上涂布具有活性能量线固化性官能团的有机硅化合物的工序,通过活性能量线使上述有机硅化合物固化的工序,对上述有机硅化合物进行蚀刻,使磁性层在表面露出的工序,以及形成保护膜的工序。
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公开(公告)号:CN101978420A
公开(公告)日:2011-02-16
申请号:CN200980109283.0
申请日:2009-03-10
Applicant: 昭和电工株式会社
IPC: G11B5/84 , C09D183/04 , G11B5/65
CPC classification number: G11B5/855 , C09D183/06 , G03F7/0757
Abstract: 本发明提供了一种磁记录介质的制造方法,是在非磁性基板上至少具有记录层和保护膜的磁记录介质的制造方法,其特征在于,依次具有以下工序:在基板上形成连续的记录层的工序,形成图案化的抗蚀剂层的工序,依照该抗蚀剂图案部分性地除去上述记录层的工序,在上述记录层和已除去记录层的部位上涂布具有活性能量线固化性官能团的有机硅化合物的工序,通过活性能量线使上述有机硅化合物固化的工序,对上述有机硅化合物进行蚀刻,使磁性层在表面露出的工序,以及形成保护膜的工序。
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