公开(公告)号：CN1280007C

公开(公告)日：2006-10-18

申请号：CN01804848.X

申请日：2001-01-10

Applicant: 株式会社吴羽

Inventor： 猪狩裕 ,  堀祐司 ,  冈本恒夫

IPC: B01J13/08 ,  A01N25/28

CPC classification number: B01J13/08 ,  A01N25/28 ,  A01N37/34 ,  A01N47/22 ,  A01N57/12 ,  A01N57/16 ,  B41M5/165 ,  B41M5/287 ,  B41M5/30 ,  Y10S514/963 ,  A01N25/10 ,  A01N2300/00

Abstract: 在良好粒度分布下生产含有均匀而平滑涂膜和也具有优良逐渐释放内容物材料性能的微胶囊(或微囊包封产物)，同时抑制分离或聚集膜材料、聚集微胶囊和分离芯材料的发生。该生产方法包括：如下方式的第一涂敷步骤：在分散于含水介质中的疏水性芯材料存在下，混合水溶性阳离子氨基树脂和阴离子表面活性剂，以采用阳离子氨基树脂和阴离子表面活性剂的凝聚层涂敷分散的芯材料；和如下方式的第二涂敷步骤：将氨基树脂预聚物加入到包含涂敷的分散芯材料的含水分散液体中和缩聚氨基树脂预聚物，以进一步将涂敷的分散芯材料采用氨基树脂预聚物的缩聚物涂敷。

公开(公告)号：CN100544810C

公开(公告)日：2009-09-30

申请号：CN200580030954.6

申请日：2005-07-27

Applicant: 株式会社吴羽

Inventor： 大桥裕昭 ,  猪狩裕 ,  小林正则 ,  大田原健太郎

IPC: B01F7/16 ,  B01F3/14

CPC classification number: B01F13/1016 ,  B01F3/1221 ,  B01F7/00633 ,  B01F7/186 ,  B01F13/1013

Abstract: 本发明涉及固液接触装置和方法。该垂直固液接触装置包括：相互串联地邻接垂直布置的多个搅拌室，都用于隔开相邻一对搅拌室并设有用于在所述相邻一对搅拌室之间连通的连通孔的多个隔板，以及设置在所述装置下部的液体入口和设置在所述装置上部的固体入口。每一个搅拌室具有限定所述搅拌室的内侧壁、径向排放搅拌叶片和在所述内侧壁上固定成垂直延伸的至少一个挡板。所述搅拌叶片和所述挡板定位成偏向所述搅拌室的下侧。该装置具有固体流和液体流的高均匀性和高接触效率，简单结构并且容易按比例放大。该装置可广泛地用于化学工业中的单元操作。该装置在接近其最大负荷操作时具有尤其良好的固液接触效率。

公开(公告)号：CN101018601A

公开(公告)日：2007-08-15

申请号：CN200580030954.6

申请日：2005-07-27

Applicant: 株式会社吴羽

Inventor： 大桥裕昭 ,  猪狩裕 ,  小林正则 ,  大田原健太郎

IPC: B01F7/16 ,  B01F3/14

CPC classification number: B01F13/1016 ,  B01F3/1221 ,  B01F7/00633 ,  B01F7/186 ,  B01F13/1013

Abstract: 本发明涉及固液接触装置和方法。该垂直固液接触装置包括：相互串联地邻接垂直布置的多个搅拌室，都用于隔开相邻一对搅拌室并设有用于在所述相邻一对搅拌室之间连通的连通孔的多个隔板，以及设置在所述装置的上部和下部的液体入口和固体入口。每一个搅拌室具有限定所述搅拌室的内侧壁、径向排放搅拌叶片和在所述内侧壁上固定成垂直延伸的至少一个挡板。所述搅拌叶片和所述挡板定位成偏向所述搅拌室的下侧。该装置具有固体流和液体流的高均匀性和高接触效率，简单结构并且容易按比例放大。该装置可广泛地用于化学工业中的单元操作。该装置在接近其最大负荷操作时具有尤其良好的固液接触效率。