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公开(公告)号：CN101370576B
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN200680052754.5
申请日：2006-12-04
Applicant: 株式会社吴羽
IPC: B01J8/24 , B01J6/00 , C01B31/02 , F26B3/08 , F26B17/10 , F27B15/04 , F27B15/10 , F27B15/16 , H01M4/04
CPC classification number: F27B15/04 , B01J8/003 , B01J8/1809 , B01J8/1818 , B01J8/1827 , B01J8/382 , B01J8/44 , B01J19/006 , B01J19/0066 , B01J19/1862 , B01J19/20 , B01J2208/00017 , B01J2208/00407 , B01J2208/00415 , B01J2208/0061 , B01J2208/00752 , B01J2208/00761 , B01J2208/00769 , B01J2208/00778 , B01J2208/00867 , B01J2208/00884 , B01J2219/00777 , B01J2219/00779 , C01B32/05 , F26B3/08 , F26B3/0923 , F27B15/09 , F27B15/10 , F27B15/14 , F27B15/16 , H01M4/0471 , H01M4/133 , H01M4/1393 , H01M4/587
Abstract: 本发明的目的是提供一种可进行粉粒体的均匀的高温气体处理的连续式粉粒体高温气体处理装置、以及使用该连续式粉粒体高温气体处理装置来处理粉粒体的方法。所述装置具备：从装置上部供给原料粉粒体的原料供给口(1)、供给处理气体的处理气体供给口(2)、从装置下部排出处理后的制品的制品排出口(3)、用处理气体处理粉粒体的处理室(4)、以流体连通状态设置于该处理室(4)上部的气固分离室(5)、和以流体连通状态设置于该处理室(4)下部的冷却室(6)。其构成如下：在处理室(4)上部外周设有加热装置(7)、在冷却室(6)外周设有冷却装置(8)，装置运行时在处理室(4)下部形成移动层(4a)，在移动层(4a)的上部连续地形成流动层(4b)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101370576A
公开(公告)日：2009-02-18
申请号：CN200680052754.5
申请日：2006-12-04
Applicant: 株式会社吴羽
IPC: B01J8/24 , B01J6/00 , C01B31/02 , F26B3/08 , F26B17/10 , F27B15/04 , F27B15/10 , F27B15/16 , H01M4/04
CPC classification number: F27B15/04 , B01J8/003 , B01J8/1809 , B01J8/1818 , B01J8/1827 , B01J8/382 , B01J8/44 , B01J19/006 , B01J19/0066 , B01J19/1862 , B01J19/20 , B01J2208/00017 , B01J2208/00407 , B01J2208/00415 , B01J2208/0061 , B01J2208/00752 , B01J2208/00761 , B01J2208/00769 , B01J2208/00778 , B01J2208/00867 , B01J2208/00884 , B01J2219/00777 , B01J2219/00779 , C01B32/05 , F26B3/08 , F26B3/0923 , F27B15/09 , F27B15/10 , F27B15/14 , F27B15/16 , H01M4/0471 , H01M4/133 , H01M4/1393 , H01M4/587
Abstract: 本发明的目的是提供一种可进行粉粒体的均匀的高温气体处理的连续式粉粒体高温气体处理装置、以及使用该连续式粉粒体高温气体处理装置来处理粉粒体的方法。所述装置具备：从装置上部供给原料粉粒体的原料供给口(1)、供给处理气体的处理气体供给口(2)、从装置下部排出处理后的制品的制品排出口(3)、用处理气体处理粉粒体的处理室(4)、以流体连通状态设置于该处理室(4)上部的气固分离室(5)、和以流体连通状态设置于该处理室(4)下部的冷却室(6)。其构成如下：在处理室(4)上部外周设有加热装置(7)、在冷却室(6)外周设有冷却装置(8)，装置运行时在处理室(4)下部形成移动层(4a)，在移动层(4a)的上部连续地形成流动层(4b)。
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公开(公告)号：CN101184692A
公开(公告)日：2008-05-21
申请号：CN200680018481.2
申请日：2006-05-15
Applicant: 株式会社吴羽
IPC: C01B31/10
CPC classification number: C01B32/336 , C01B32/39
Abstract: 一种活性炭的制造方法，其特征在于，从用设置在上部的水平多孔隔板的开孔率被设定得比设置在下部的水平多孔隔板的开孔率大的多个水平多孔隔板分隔的立式多级流化床装置的下部、按照流化床内的气体空塔速度为原料炭的最小流化速度的2～4倍那样，连续供给原料炭和含有流化水蒸气的流化气体，在利用该流化气体使原料炭流化的同时，在750～950℃进行水蒸气活化，从装置上部连续排出被活化了的活性炭。由此，能够以与分批操作不相上下的高收率、连续地制造高活化度的活性炭。
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公开(公告)号：CN101184692B
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200680018481.2
申请日：2006-05-15
Applicant: 株式会社吴羽
IPC: C01B31/10
CPC classification number: C01B32/336 , C01B32/39
Abstract: 一种活性炭的制造方法，其特征在于，从用设置在上部的水平多孔隔板的开孔率被设定得比设置在下部的水平多孔隔板的开孔率大的多个水平多孔隔板分隔的立式多级流化床装置的下部、按照流化床内的气体空塔速度为原料炭的最小流化速度的2～4倍那样，连续供给原料炭和含有流化水蒸气的流化气体，在利用该流化气体使原料炭流化的同时，在750～950℃进行水蒸气活化，从装置上部连续排出被活化了的活性炭。由此，能够以与分批操作不相上下的高收率、连续地制造高活化度的活性炭。
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公开(公告)号：CN100544810C
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200580030954.6
申请日：2005-07-27
Applicant: 株式会社吴羽
CPC classification number: B01F13/1016 , B01F3/1221 , B01F7/00633 , B01F7/186 , B01F13/1013
Abstract: 本发明涉及固液接触装置和方法。该垂直固液接触装置包括：相互串联地邻接垂直布置的多个搅拌室，都用于隔开相邻一对搅拌室并设有用于在所述相邻一对搅拌室之间连通的连通孔的多个隔板，以及设置在所述装置下部的液体入口和设置在所述装置上部的固体入口。每一个搅拌室具有限定所述搅拌室的内侧壁、径向排放搅拌叶片和在所述内侧壁上固定成垂直延伸的至少一个挡板。所述搅拌叶片和所述挡板定位成偏向所述搅拌室的下侧。该装置具有固体流和液体流的高均匀性和高接触效率，简单结构并且容易按比例放大。该装置可广泛地用于化学工业中的单元操作。该装置在接近其最大负荷操作时具有尤其良好的固液接触效率。
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公开(公告)号：CN101018601A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200580030954.6
申请日：2005-07-27
Applicant: 株式会社吴羽
CPC classification number: B01F13/1016 , B01F3/1221 , B01F7/00633 , B01F7/186 , B01F13/1013
Abstract: 本发明涉及固液接触装置和方法。该垂直固液接触装置包括：相互串联地邻接垂直布置的多个搅拌室，都用于隔开相邻一对搅拌室并设有用于在所述相邻一对搅拌室之间连通的连通孔的多个隔板，以及设置在所述装置的上部和下部的液体入口和固体入口。每一个搅拌室具有限定所述搅拌室的内侧壁、径向排放搅拌叶片和在所述内侧壁上固定成垂直延伸的至少一个挡板。所述搅拌叶片和所述挡板定位成偏向所述搅拌室的下侧。该装置具有固体流和液体流的高均匀性和高接触效率，简单结构并且容易按比例放大。该装置可广泛地用于化学工业中的单元操作。该装置在接近其最大负荷操作时具有尤其良好的固液接触效率。
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